[发明专利]基于废气阻抗的端点检测

权利要求书

1.一种用于测量废气阻抗的系统，其特征在于包括：

一反应物输送系统；

一与反应物输送系统连接的工艺腔，反应物输送系统用于提供反应物，反应物用于使工艺腔内的薄膜挥发；

一排气管，挥发的薄膜废气通过排气管从工艺腔中排出；

一电极组件，位于排气管内，电极暴露于从工艺腔排出的挥发的薄膜废气中；

一与电极组件相连接的电离能输送网路，电离能输送网路用于将电离能信号施加于电极组件，其中施加于电极组件的电离能信号引发电极组件与排气管间的等离子体放电；以及

一与电极组件相连接的检测器，检测器用于检测正在工艺腔内进行的一工艺过程的端点。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于该系统进一步包括：

接口电路可连接反应物输送系统，电离能量输送电路和检测器，接口电路用于接收反应物输送系统传来触发信号，电离能量输送系统因触发信号而启动。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于该系统进一步包括：

接口电路可与反应物输送系统、电离能量输送电路和检测器连接，接口电路用于将从检测器来的端点信号提供给反应物输送系统，反应物输送系统可根据该端点信号停止向工艺腔输送反应物。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于所述的工艺腔包含在化学气相沉积（CVD）制程机台内部。

5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于所述的CVD制程机台用于沉积器件的镀层，器件可为半导体器件，纺织品，显示器件和光电器件中的一种。

6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于所述的检测器收集至少一个以下所列参数：

电离能的电压；

电离能的电流；

电离能的相位角； 

电离能的输送功率；

电离能的阻抗（Z）；

电离能的电阻（R）；

电离能的电抗（X）；以及

与电离能相关的发电机的发出功率或反射功率信号。

7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于所述的检测器收集射频信号的阻抗。

8.根据权利要求1所述的系统，其特征在于所述的检测器包括用于确定正在工艺腔内进行的工艺过程的端点的处理电路，端点是根据至少一个以下所列参数而确定的：

电离能的电压；

电离能的电流；

电离能的相位角；

电离能的输送功率；

电离能的阻抗（Z）；

电离能的电阻（R）；

电离能的电抗（X）；以及

与电离能相关的发电机的发出功率或反射功率信号。

9.根据权利要求1所述的系统，其特征在于所述的检测器与反应物输送系统接口，其中反应物输送系统中的处理电路用于根据检测器所提供的信号确定正在工艺腔内进行的工艺过程的端点，这些信号包括至少一个以下所列参数：

电离能的电压；

电离能的电流；

电离能的相位角；

电离能的输送功率；

电离能的阻抗（Z）；

电离能的电阻（R）；

电离能的电抗（X）；以及

与电离能相关的发电机的发出功率或反射功率信号。

10.根据权利要求1所述的系统，其特征在于所述的包含工艺腔并与检测器相连接的制程机台包括用于根据检测器所提供的信号确定正在工艺腔内进行的工艺过程的端点的处理电路，这些信号包括至少一个以下所列参数：

电离能的电压；

电离能的电流；

电离能的相位角；

电离能的输送功率；

电离能的阻抗（Z）；

电离能的电阻（R）；

电离能的电抗（X）；以及

与电离能相关的发电机的发出功率或反射功率信号。