[发明专利]用于抛光覆盖有镍-磷的铝硬磁盘的组合物及方法有效
| 申请号： | 200980107309.8 | 申请日： | 2009-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN101960519A | 公开（公告）日： | 2011-01-26 |
| 发明（设计）人： | 塞尔瓦拉杰·帕拉尼萨米钦纳撒姆比;P-H·杨;布赖恩·赖斯 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;H01L21/304;C09K3/14;B24B37/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 覆盖 硬磁盘 组合 方法 | ||
1.化学机械抛光组合物，其基本上由下列物质组成：
(a)热解氧化铝，
(b)α-氧化铝，
(c)二氧化硅，
(d)10～1000ppm的非离子型表面活性剂，
(e)0.8重量％～1.5重量％的选自甘氨酸、丙氨酸、亚氨基二乙酸和马来酸的添加剂化合物，
(f)过氧化氢，
(g)任选的杀生物剂，和
(h)水。
2.权利要求1的抛光组合物，其中所述抛光组合物包含0.2～1重量％的热解氧化铝、0.1～1重量％的α-氧化铝、和0.1～4重量％的二氧化硅。
3.权利要求1的抛光组合物，其中所述热解氧化铝的平均粒度为75～125nm，所述α-氧化铝的平均粒度为250～500nm，和所述二氧化硅的平均粒度为25～100nm。
4.权利要求1的抛光组合物，其中所述非离子型表面活性剂为包含硅氧烷单元、氧化乙烯单元和氧化丙烯单元的共聚物表面活性剂。
5.权利要求1的抛光组合物，其中所述抛光组合物包含50～150ppm的所述非离子型表面活性剂。
6.权利要求1的抛光组合物，其中所述抛光组合物包含1～3重量％的过氧化氢。
7.权利要求1的抛光组合物，其中所述抛光组合物的pH为2～5。
8.权利要求7的抛光组合物，其中所述抛光组合物的pH为2～4。
9.对基材进行化学机械抛光的方法，该方法包括：
(i)使基材与抛光垫以及化学机械抛光组合物接触，所述化学机械抛光组合物基本上由下列物质组成：
(a)热解氧化铝，
(b)α-氧化铝，
(c)二氧化硅，
(d)10～1000ppm的非离子型表面活性剂，
(e)0.8重量％～1.5重量％的选自甘氨酸、丙氨酸、亚氨基二乙酸和马来酸的添加剂化合物，
(f)过氧化氢，
(g)任选的杀生物剂，和
(h)水，
(ii)使所述抛光垫和所述抛光组合物相对于所述基材移动，和
(iii)磨除所述基材的至少一部分以抛光所述基材。
10.权利要求9的方法，其中所述抛光组合物包含0.2～1重量％的热解氧化铝、0.1～1重量％的α-氧化铝和0.1～4重量％的二氧化硅。
11.权利要求9的方法，其中所述热解氧化铝的平均粒度为75～125nm，所述α-氧化铝的平均粒度为250～500nm，和所述二氧化硅的平均粒度为25～100nm。
12.权利要求9的方法，其中所述非离子型表面活性剂为包含硅氧烷单元、氧化乙烯单元和氧化丙烯单元的共聚物表面活性剂。
13.权利要求9的方法，其中所述抛光组合物包含50～150ppm的所述非离子型表面活性剂。
14.权利要求9的方法，其中所述抛光组合物包含1～3重量％的过氧化氢。
15.权利要求9的方法，其中所述抛光组合物的pH为2～5。
16.权利要求15的方法，其中所述抛光组合物的pH为2～4。
17.权利要求9的方法，其中所述基材包括覆盖有镍-磷的铝，磨除所述镍-磷的至少一部分以抛光所述基材。
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