[发明专利]微器件制造

权利要求书

1.一种系统，包括能量源、至少一个共轭掩模、放大器件以及制造材料，其中所述至少一个共轭掩模被布置在所述能量源和所述放大器件之间，并且其中所述制造材料被布置成对所述放大器件适用。

2.根据权利要求1的系统，其中所述能量源是激光器。

3.根据权利要求1的系统，其中所述至少一个共轭掩模是静态掩模。

4.根据权利要求1的系统，其中所述至少一个共轭掩模是动态掩模。

5.根据权利要求1的系统，其中所述至少一个共轭掩模是反射式的或透射式的或部分反射部分透射式的。

6.根据权利要求1的系统，其中所述至少一个共轭掩模包括较大透射的区域和较小透射的区域。

7.根据权利要求1的系统，其中所述至少一个共轭掩模是数字微镜器件。

8.根据权利要求1的系统，其中所述至少一个共轭掩模是液晶显示器。

9.根据权利要求1的系统，还包括计算机。

10.根据权利要求1的系统，其中所述放大器件包括透镜。

11.根据权利要求1的系统，其中所述放大器件包括显微镜物镜。

12.根据权利要求1的系统，其中所述制造材料的至少一部分选自于生物材料、光固化树脂、弹性体、无机-有机杂化聚合物、正性光刻胶、负性光刻胶、金属以及电活性催化材料中的一种或多种。

13.根据权利要求1的系统，还包括射束扫描器件。

14.根据权利要求1的系统，还包括掩模平移器件。

15.根据权利要求1的系统，还包括制造材料平移器件。

16.一种方法，包括：提供能量源、至少一个共轭掩模、放大器件以及制造材料，其中所述至少一个共轭掩模被布置在所述能量源和所述放大器件之间，并且其中所述制造材料被布置成适用于所述放大；以及使所述制造材料暴露于从所述能量源发出的能量。

17.根据权利要求16的方法，其中所述能量源是激光器。

18.根据权利要求16的方法，其中所述至少一个共轭掩模是静态掩模。

19.根据权利要求16的方法，其中所述至少一个共轭掩模是动态掩模。

20.根据权利要求16的方法，其中所述至少一个共轭掩模是反射式的或透射式的或部分反射部分透射式的。

21.根据权利要求16的方法，其中所述至少一个共轭掩模包括较大透射的区域和较小透射的区域。

22.根据权利要求16的方法，其中所述至少一个共轭掩模是数字微镜器件。

23.根据权利要求16的方法，其中所述至少一个共轭掩模是液晶显示器。

24.根据权利要求16的方法，其中所述放大器件包括透镜。

25.根据权利要求16的方法，其中所述放大器件包括显微镜物镜。

26.根据权利要求16的方法，其中所述制造材料的至少一部分选自于生物材料、光固化树脂、弹性体、无机-有机杂化聚合物、正性光刻胶、负性光刻胶、金属以及电活性催化材料中的一种或多种。

27.根据权利要求16的方法，其中所述制造材料包括一个或多个细胞。

28.根据权利要求16的方法，其中来自所述能量源的能量被扫描。

29.根据权利要求16的方法，其中在制造期间所述至少一个共轭掩模能平移或转动或既平移又转动。

30.根据权利要求16的方法，其中在制造期间制造平面能平移或转动或既平移又转动。

31.一种方法，包括：提供能量源、至少一个共轭掩模、放大器件以及包括一个或多个细胞的制造材料，其中所述共轭掩模被布置在所述能量源和所述放大器件之间，并且其中所述制造材料被布置成适用于所述放大；使所述制造材料暴露于从所述能量源发出的能量以形成图案化的制造材料；以及在所述图案化的制造材料内培养所述一个或多个细胞。