[发明专利]毫米波(MMW)屏蔽入口系统、设备和方法无效

专利信息
申请号: 200980106268.0 申请日: 2009-01-23
公开(公告)号: CN101952739A 公开(公告)日: 2011-01-19
发明(设计)人: D·F·艾玛 申请(专利权)人: 显示成像有限责任公司
主分类号: G01S13/00 分类号: G01S13/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 过晓东
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 毫米波 mmw 屏蔽 入口 系统 设备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及安全地使用屏蔽系统、设备和方法,更为确切的说,涉及毫米波屏蔽系统、设备和方法。

背景技术

在面对当今的执法界时,对于隐藏物体的检测是一个挑战,因此,需要更多的高度安全的环境下的金属探测器现在已经是成为必须的。所以,需要有可靠的技术来检测和识别隐藏在衣服之下的非金属的物体或者其他的危险物体。

截止2008年(来源:国土防卫安全研究公司),以人为目标的屏蔽和暴露检测估计有80亿美元的市场。由研究部和市场部提供的最新报告估计对于单个人的屏蔽的费用在4到5美元之间。在美国,机场安检处预计的排队等候时间为超过20分钟。在高峰时段,排队等候的时间将会更长,等候的乘客所排成的队伍在机场内外逶迤。

非常清楚的是,在进入到安全区域之间用金属探测器对人进行检测对于防止某些物体的通过来说是非常低效的。鉴于目前的可以获得的检测工具,希望获得100%的成功几乎是一个不可能完成的任务。

附图说明

结合以下对应的附图所进行的详细描述,本发明的其他的方面、特征和优势将会越来越明显,这些附图包括:

附图1是无源毫米波的焦平面阵列的环境视图。

附图2是显示有源入口的片段环境视图。

附图3A-C描述的是本发明的一个可以效仿的实施方案的部件和数据输出。附图3A提供的是根据本发明的非限制性的实施例的入口屏蔽系统的入口屏蔽设备的透视图。

附图3B提供的是与附图3A中的入口屏蔽设备有关的远程计算站的透视图。

附图3C提供的是附图3B中的远程计算站的显示监视器上的数据输出的可以效仿的视图。

附图4是显示屏蔽入口系统的流程图。

附图5A提供的是本发明的入口屏蔽设备的部件的示意性视图,其包括旋转的有源传感器和旋转的无源传感器。

附图5B是在高处的显示360度的扫描方法的示意性描述。

附图5C提供的是本发明的入口屏蔽设备的部件的示意性视图,显示有旋转的有源传感器和旋转的无源传感器,以及也显示了第二传感器。

附图6是显示有源的毫米波的频率调制连续波(“FMCW”)传感器的方框图。

附图7是显示有源系统的数据收集装置的环境立体视图。

附图8是显示平行的屏蔽方法的环境立体视图。

具体实施方式

本发明将结合对应的附图进行更为详细的描述,其中揭示了本发明的各种不同的实施方案。然而,本发明可以通过各种不同的方法得以体现,因此,本发明并未将其结构限定在以下的实施方案中。而是,通过揭示的实施方案,本发明能够得到全面和完整的描述,并能够使本领域内的任何一名普通技术人员能够全面把握本发明的范围。类似的数字指代全部类似的部件。

现在将要描述的是一种以MMW为基础的屏蔽系统。系统具有两种主要的类型:无源的系统和有源的系统。无源系统只是观察和报告它们所检测到的位置环境中的任何事物。在RF光谱范围内,物质的表面会发射出不同数量的辐射,这取决于例如温度和发射率等参数。除此之外,在RF中,金属被强烈反射,这减少了金属表面的反射率,并允许其形成周围环境中的其他来源的反射,最为显著的例子就是天空。从人的屏蔽点的角度来说,无源传感器具有巨大的优势,既能够产生有价值的信息,而无需发出它们自己的任何信号。大部分这样的系统在最近几年得到不断的研发。正如附图1所示,这些系统通常在焦平面的阵列中采用一个或更多的传感器。毫米波(MMW)的焦平面的阵列的辐射计被用于许多应用中,例如,远程感应,以基于自然辐射的微波能量的检查结果形成图像。所述图像通过扫描一维或二维的天线反射器进行收集。焦平面的阵列有多种不同形式的改变,包括减少的相关尺寸(请参考,例如,附图1,其包括天线131,天线包括中心传感器阵列132和空间分离的次反射器133,其将来自凹面天线131的辐射集中到传感器阵列132上)的折叠镜(次反射器),以及包括那些具有校正透镜的改变,以更好地将能量聚焦到传感器阵列中。操作焦平面阵列的技术的原理在现有技术中已经得到充分的描述。Herring等人(第6,144,031号美国专利)对红外线焦平面阵列的系统提出过教导。尽管系统是在红外线的频率下进行操作的,基本的原则同样适用于MMW的频率。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于显示成像有限责任公司,未经显示成像有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980106268.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top