[发明专利]电极的表面处理方法和电极、以及有机电致发光元件的制造方法

权利要求书

1.一种电极的表面处理方法，其特征在于，包括使由金属氧化物或金属制成的电极与具有Si-O键的化合物的碱性溶液接触的接触工序。

2.根据权利要求1所述的电极的表面处理方法，其特征在于，所述具有Si-O键的化合物是硅酸盐。

3.根据权利要求2所述的电极的表面处理方法，其特征在于，所述硅酸盐是选自硅酸钠、硅酸钾、硅酸铷和硅酸锂中的至少1种。

4.根据权利要求1～3的任一项所述的电极的表面处理方法，其特征在于，所述碱性溶液包含以Si原子换算为0.001～15质量％的所述具有Si-O键的化合物。

5.根据权利要求1～4的任一项所述的电极的表面处理方法，其特征在于，所述碱性溶液包含碱金属离子，该碱性溶液中的该碱金属离子的摩尔浓度是所述具有Si-O键的化合物的Si原子换算摩尔浓度的0.1～10倍。

6.根据权利要求1～5的任一项所述的电极的表面处理方法，其特征在于，通过使所述电极浸渍在所述碱性溶液中来进行所述接触工序。

7.根据权利要求1～5的任一项所述的电极的表面处理方法，其特征在于，通过向所述电极喷射所述碱性溶液来进行所述接触工序。

8.根据权利要求1～5的任一项所述的电极的表面处理方法，其特征在于，通过将所述碱性溶液涂布在所述电极表面上来进行所述接触工序。

9.根据权利要求8所述的电极的表面处理方法，其特征在于，所述涂布方法是在所述电极表面上形成所述碱性溶液的积液部，并使所述电极在其表面的面内方向上旋转，从而使所述积液部扩大至覆盖整个所述电极表面的方法。

10.根据权利要求9所述的电极的表面处理方法，其特征在于，所述涂布方法是旋转涂布法或流延法。

11.根据权利要求8所述的电极的表面处理方法，其特征在于，所述涂布方法是微凹版涂布法、凹版涂布法、棒涂法、辊涂法、环棒式涂布法、浸渍涂布法、喷涂法、丝网印刷法、柔版印刷法、胶版印刷法或喷墨印刷法。

12.根据权利要求1～11的任一项所述的电极的表面处理方法，其特征在于，在所述接触工序之后，还包括用水洗涤电极的洗涤工序。

13.根据权利要求12所述的电极的表面处理方法，其特征在于，通过选自毛刷洗涤法、二流体洗涤法、超声波洗涤法、高压喷射洗涤法和旋转洗涤法中的至少1种方法来进行所述洗涤工序。

14.根据权利要求1～13的任一项所述的电极的表面处理方法，其特征在于，在所述接触工序后的任意阶段，还包括将电极加热至60～250℃的加热工序，其中，在包括所述洗涤工序的情况下，所述任意阶段是在所述洗涤工序后的任意阶段。

15.根据权利要求1～14的任一项所述的电极的表面处理方法，其特征在于，在所述接触工序后的任意阶段，还包括对电极照射紫外线的UV照射工序，其中，在包括所述洗涤工序的情况下，所述任意阶段是在所述洗涤工序后的任意阶段。

16.一种采用权利要求1～15的任一项所述的方法进行了表面处理的、由金属氧化物或金属制成的电极。

17.一种由氧化铟锡制成的电极，其特征在于，采用权利要求1～15的任一项所述的方法进行了表面处理，在大气中通过紫外光电子能谱法测定得到的功函数为-5.2～-6.0eV。

18.一种有机电致发光元件的制造方法，是依次叠层有阳极、发光层和阴极的有机电致发光元件的制造方法，其特征在于，在采用权利要求1～15的任一项所述的方法进行了表面处理的、由金属氧化物或金属制成的阳极上形成该发光层和该阴极。

19.一种有机电致发光元件，在采用权利要求1～15的任一项所述的方法进行了表面处理的、由金属氧化物或金属制成的阳极上依次叠层有发光层和阴极。