[发明专利]微波等离子体处理装置

权利要求书

1.一种微波等离子体处理装置，通过微波形成处理气体的等离子体，通过该等离子体对被处理体实施等离子体处理，其特征在于，包括：

收容有被处理体的腔室；

在所述腔室内载置被处理体的载置台；

产生微波的微波产生源；

将由微波产生源产生的微波向所述腔室进行引导的导波管；

将被导入到所述导波管的微波向所述腔室进行放射的、由导体构成的平面天线；

构成所述腔室的顶壁，使通过所述平面天线的微波放射孔的微波透过的、由电介质构成的微波透过板；和

向所述腔室内供给处理气体的处理气体供给部，

所述平面天线具有一方向上长的多个微波放射孔，在使所述平面天线的表面呈同心状地分为中央区域、外周区域和中央区域与外周区域的中间区域的情况下，朝向各异的所述微波放射孔的对以同心圆状在所述中央区域和所述外周区域配列有多个，在所述中间区域不形成微波放射孔，

所述微波透过板在其微波放射面上形成有凹部。

2.如权利要求1所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

所述成对的微波放射孔形成为，其长度方向的一端接近，另一端扩开。

3.如权利要求2所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

构成所述微波放射孔的对的各微波放射孔的长度方向彼此所成的角度为80～100°。

4.如权利要求1所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

形成在所述中央区域的微波透过孔的长度方向的长度比形成在所述外周区域上的微波透过孔的长度方向的长度短。

5.如权利要求1所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

所述凹部形成在与载置于所述载置台上的被处理体对应的部分。

6.如权利要求5所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

所述微波透过板呈截面拱状。

7.如权利要求6所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

与所述微波透过板的所述凹部对应的部分是平坦的。

8.如权利要求1所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

所述微波透过板的微波放射面在其周缘部具有向下方突出的呈环状的突出部。

9.一种微波等离子体处理装置，该微波等离子体处理装置通过微波形成处理气体的等离子体，通过该等离子体对被处理体实施等离子体处理，其特征在于，包括：

收容有被处理体的腔室；

在所述腔室内载置被处理体的载置台；

产生微波的微波产生源；

将由微波产生源产生的微波向所述腔室进行引导的导波管；

将被导入到所述导波管的微波向所述腔室放射的、由导体构成的平面天线；

构成所述腔室的顶壁，使通过所述平面天线的微波放射孔的微波透过的、由电介质构成的微波透过板；和

向所述腔室内供给处理气体的处理气体供给部，

所述平面天线具有一方向上长的多个微波放射孔，在使所述平面天线的表面呈同心状地分为中央区域、外周区域和中央区域与外周区域的中间区域的情况下，朝向各异的所述微波放射孔的对以同心圆状在所述中央区域和所述外周区域配列有多个，在所述中间区域不形成微波放射孔，

所述微波透过板在其微波放射面上形成为凹凸状。

10.如权利要求9所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

所述成对的微波放射孔形成为，其长度方向的一端接近，另一端扩开。

11.如权利要求10所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

构成所述微波放射孔的对的各微波放射孔的长度方向彼此所成的角度为90°。

12.如权利要求9所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

形成在所述中央区域的微波透过孔的长度方向的长度比形成在所述外周区域的微波透过孔的长度方向的长度短。

13.如权利要求9所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

所述微波透过板的微波放射面以同心状交替形成凸部和凹部。

14.如权利要求9所述的微波等离子体处理装置，其特征在于：

所述微波透过板的微波放射面在其周缘部具有向下方突出的呈环状的突出部。