[发明专利]活化剂络合物在碱性过氧化物清洁体系中用于提高较低温度清洁作用的应用

权利要求书

1.使用原位清洁工艺从表面除去污物的方法，其包括向该表面施用包含下列组分的组合物：

(i)活化剂络合物；

(ii)碱度源；和

(iii)活性氧源；

其中所述组合物在约5℃-约50℃的温度下被施用于所述表面。

2.权利要求1的方法，其中所述活化剂络合物包括过渡金属络合物。

3.权利要求2的方法，其中所述过渡金属络合物包含锰离子源。

4.权利要求2的方法，其中锰离子源具有选自零、二、三、四、七及其组合的氧化态。

5.权利要求3的方法，其中所述锰离子源选自硫酸锰(II)、氯化锰(II)、氧化锰(II)、氧化锰(III)、氧化锰(IV)、乙酸锰(II)及它们的混合物。

6.权利要求3的方法，其中所述锰离子源用葡糖酸盐组分络合。

7.权利要求1的方法，其中所述碱度源选自碱式盐、胺类、烷醇胺类、碳酸盐、硅酸盐及它们的混合物。

8.权利要求7的方法，其中所述碱度源包括碱金属氢氧化物。

9.权利要求8的方法，其中所述碱度源包括氢氧化钠。

10.权利要求1的方法，其中所述活性氧源包括过氧化合物。

11.权利要求10的方法，其中所述过氧化合物包括过氧化氢。

12.权利要求1的方法，其中所述组合物的pH为约11-约14。

13.权利要求1的方法，其中有待清洁的表面选自罐、管线和加工设备。

14.权利要求13的方法，其中所述加工设备选自巴氏灭菌器、均质器、分离器、蒸发器、过滤器、干燥器、膜、发酵罐、冷却罐、及它们的组合。

15.权利要求1的方法，其中将所述组合物施用于有待清洁的表面达约10分钟-约60分钟。

16.权利要求1的方法，其中所述组合物在与有待清洁的表面上存在的污物接触后基本上分解。

17.权利要求1的方法，其中所述组合物包含：

(i)百万分之约50-约200的活化剂络合物；

(ii)约0.25wt％-约1.5wt％的碱度源；和

(iii)约0.25wt％-约1.0wt％的活性氧源。

18.权利要求1的方法，其中所述组合物进一步包含选自低泡表面活性剂、增效助剂、缓冲剂、抗微生物组分、以及它们的组合的附加功能成分。

19.权利要求18的方法，其中所述表面活性剂选自醇烷氧基化物、线型烷基苯磺酸盐、醇磺酸盐、胺氧化物、烷基酚乙氧基化物、聚乙二醇酯、EO/PO嵌段共聚物及它们的混合物。

20.权利要求1的方法，其中所述组合物包含GRAS成分。

21.权利要求1的方法，其进一步包括：

(b)在已经将所述组合物施用于有待清洁的表面之后再施用该组合物，其中将附加的未使用过的活性氧源添加到再施用的组合物中。

22.权利要求21的方法，其中在再施用该组合物于所述表面之前向该组合物中添加所述附加的活性氧源。

23.权利要求21的方法，其中基本上与再施用该组合物于所述表面同时向该组合物中添加所述附加的活性氧源。

24.权利要求21的方法，其中在再施用该组合物于所述表面之后向该组合物中添加所述附加的活性氧源。

25.清洁表面的方法，其包括：

(a)将预处理溶液施用于所述表面达足以基本上渗透该表面上的污物的时间量；和

(b)将补偿溶液施用于所述表面，其中在所述预处理溶液和所述补偿溶液的施用之间没有漂洗步骤。

26.权利要求25的方法，其中将所述预处理溶液施用于所述表面达约5-约15分钟。

27.权利要求25的方法，其中在约5℃-60℃下将所述预处理溶液施用于所述表面。