[发明专利]超精细图案化掩模、其生产方法以及将其用于形成超精细图案的方法

权利要求书

1.一种形成超精细图案化掩模的方法，包括步骤：

制备基体衬底，在其上层合待处理薄膜；

在待处理薄膜上形成具有凸起的第一凸起图案；

用包含树脂的树脂组合物涂覆第一凸起图案，该树脂包含的重复单元各自具有一个硅氮烷键；

加热已经进行涂覆步骤的基体衬底，以固化存在于与凸起邻近区域的树脂组合物；

冲洗已经进行固化步骤的基体衬底，以除去未固化的树脂组合物；

除去凸起上表面上固化的树脂组合物部分，以在凸起的侧面形成与第一凸起图案材料不同的材料层；以及

除去该凸起，以形成不同材料的超精细第二凸起图案化掩模。

2.一种形成超精细图案化掩模的方法，包括步骤：

制备基体衬底，在其上依次层合待处理薄膜和处理辅助用中间薄膜；

在处理辅助用中间薄膜上形成具有凸起的第一凸起图案；

用包含树脂的树脂组合物涂覆第一凸起图案，该树脂包含的重复单元各自具有一个硅氮烷键；

加热已经进行涂覆步骤的基体衬底，以固化存在于与凸起邻近区域的树脂组合物；

冲洗已经进行固化步骤的基体衬底，以除去未固化的树脂组合物；

除去凸起表面上固化的树脂组合物部分，以在凸起的侧面形成与第一凸起图案材料不同的材料层；

除去该第一凸起图案，以形成不同材料的超精细第二凸起图案化掩模；以及

通过第二凸起图案化掩模来蚀刻该处理辅助用中间薄膜，以形成用于制造待处理薄膜的超精细图案化掩模。

3.一种形成超精细图案化掩模的方法，包括步骤：

制备基体衬底，在其上层合待处理薄膜；

在待处理薄膜上形成具有凸起的第一凸起图案；

用包含树脂的树脂组合物涂覆第一凸起图案，该树脂包含的重复单元各自具有一个硅氮烷键；

加热已经进行涂覆步骤的基体衬底，以固化存在于与凸起邻近区域的树脂组合物；

冲洗已经进行固化步骤的基体衬底，以除去未固化的树脂组合物；

除去凸起上表面上固化的树脂组合物部分，以在凸起的侧面形成与第一凸起图案材料不同的材料层；

用与第一凸起图案材料基本相同的材料嵌入间隔，以形成与第一凸起图案互补的图案；以及

除去该不同材料的层，以形成由第一凸起图案和互补图案组成的超精细图案化掩模。

4.一种形成超精细图案化掩模的方法，包括步骤：

制备基体衬底，在其上依次层合待处理薄膜和处理辅助用中间薄膜；

在处理辅助用中间薄膜上形成具有凸起的第一凸起图案；

用包含树脂的树脂组合物涂覆第一凸起图案，该树脂包含的重复单元各自具有一个硅氮烷键；

加热已经进行涂覆步骤的基体衬底，以固化存在于与凸起邻近区域的树脂组合物；

冲洗已经进行固化步骤的基体衬底，以除去未固化的树脂组合物；

除去凸起表面上固化的树脂组合物部分，以在凸起的侧面形成与第一凸起图案材料不同的材料层；

用与第一凸起图案材料基本相同的材料嵌入所述凸起间的间隔，以形成与第一凸起图案互补的图案；

除去该不同材料的层，以形成由第一凸起图案和互补图案组成的超精细图案化掩模；以及

通过第一凸起图案和互补图案来蚀刻该处理辅助用中间薄膜，以形成用于制造待处理薄膜的超精细图案化掩模。

5.根据权利要求1～4中任一项的方法，其中具有硅氮烷键的重复单元由通式(I)表示：

其中R¹和R²独立地是氢原子、烷基、链烯基、环烷基、芳基、烷基甲硅烷基、烷基氨基、烷氧基，或者是与硅原子连接的原子为碳原子的不同于这些基团的基团；

R³是氢原子、烷基、链烯基、环烷基、芳基、烷基甲硅烷基、烷基氨基、烷氧基，或者是具有包含1～6个碳原子的饱和烃基的硅氮烷基，

R¹、R²和R³中的至少一个是氢原子。

6.根据权利要求1～5中任一项的方法，其中第一凸起图案由光致抗蚀剂形成。

7.根据权利要求1～6中任一项的方法形成的超精细图案化掩模。

8.一种超精细图案形成方法，包括通过使用根据权利要求7的超精细图案化掩模作为蚀刻掩模来蚀刻待处理薄膜的步骤。