[发明专利]基板支撑装置及具有该支撑装置的基板处理装置无效
| 申请号： | 200980103196.4 | 申请日： | 2009-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN101919029A | 公开（公告）日： | 2010-12-15 |
| 发明（设计）人： | 李范述;蔡济浩;李盛玟 | 申请（专利权）人： | 高美科株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/205 | 分类号： | H01L21/205 |
| 代理公司： | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人： | 段迎春 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 支撑 装置 具有 处理 | ||
1.一种用于支撑基板的装置，包括：
对所述基板进行支撑的上板；
设在所述上板之下的下板；
位于所述上板与所述下板之间的绝缘部件；
电极，其位于所述上板与所述绝缘部件之间以将等离子体导向由所述上板支撑之基板上；及
加热器，其位于所述绝缘部件与所述下板之间以加热由所述上板支撑之基板，
其中所述绝缘部件包括体积电阻在约400℃～约800℃的温度下大于等于约106Ω-cm的材料，以减小所述加热器与所述电极之间的泄漏电流。
2.如权利要求1所述的装置，其中所述绝缘部件为在约1,600℃～约1,900℃的温度下以及约0.01吨/cm2～约0.3吨/cm2的压力下在惰性气体环境中形成的烧结氮化铝。
3.如权利要求2所述的装置，其中所述绝缘部件包括多于约95％质量的氮化铝。
4.如权利要求1所述的装置，其中所述绝缘部件的厚度为约3mm～约10mm，以减小所述加热器与所述电极之间的泄漏电流。
5.如权利要求1所述的装置，其中所述上板和下板都包括烧结陶瓷。
6.如权利要求1所述的装置，其中所述加热器包括电阻加热丝。
7.如权利要求6所述的装置，其中所述电极的形状为网状或板状。
8.一种用于处理基板的装置，包括：
处理室；
基板支撑部，其设在所述处理室中以支撑且加热所述基板；及
供气部，其将反应气体供给入所述处理室以在所述基板上形成层，并且用作上电极以从所述反应气体形成等离子体，
其中所述基板支撑部包括：
对所述基板进行支撑的上板；
设在所述上板之下的下板；
位于所述上板与所述下板之间的绝缘部件；
接地电极，其位于所述上板与所述绝缘部件之间以将等离子体导向由所述上板支撑之基板上；及
加热器，其位于所述绝缘部件与所述下板之间以加热由所述上板支撑之基板，并且
所述绝缘部件包括体积电阻在约400℃～约800℃的温度下大于等于约106Ω-cm的材料，以减小所述加热器与所述电极之间的泄漏电流。
9.如权利要求8所述的装置，其中所述基板支撑部的加热器包括电阻加热丝。
10.如权利要求8所述的装置，其中所述基板支撑部的绝缘部件的厚度为约3mm～约10mm，以减小所述加热器与所述接地电极之间的泄漏电流。
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