[发明专利]防反射用光学元件以及原盘的制造方法

权利要求书

1.一种防反射用光学元件，其特征在于，包括：

基体；以及

多个凸状或凹状的构造体，以小于等于可视光的波长的细微间隔被配置在所述基体的表面，

其中，所述各个构造体被配置成在所述基体表面构成多列轨迹，且形成六边形格子图案、准六边形格子图案、四边形格子图案或准四边形格子图案，

所述构造体是沿所述轨迹的延伸方向具有长轴方向的椭圆锥或椭圆锥台形状。

2.根据权利要求1所述的防反射用光学元件，其特征在于，

所述各个构造体被配置为构成具有直线状的多列轨迹，且形成准六边形格子图案，

所述轨迹的延伸方向上的所述构造体的高度或深度小于所述轨迹的列方向上的所述构造体的高度或深度。

3.根据权利要求1所述的防反射用光学元件，其特征在于，

所述各个构造体被配置为构成具有直线状的多列轨迹，且形成四边形格子图案或准四边形格子图案，

相对于所述轨迹的延伸方向倾斜的排列方向上的所述构造体的高度或深度小于所述轨迹的延伸方向上的所述构造体的高度或深度。

4.根据权利要求1所述的防反射用光学元件，其特征在于，

相同轨迹内的所述构造体的配置间隔P1长于邻接的两个轨迹间的所述构造体的配置间隔P2。

5.根据权利要求1所述的防反射用光学元件，其特征在于，

所述各个构造体在所述基体表面形成六边形格子图案或准六边形格子图案，

当将相同轨迹内的所述构造体的配置间隔设定为P1，并将邻接的两个轨迹间的所述构造体的配置间隔设定为P2时，比率P1/P2满足1.00≤P1/P2≤1.1或1.00＜P1/P2≤1.1的关系。

6.根据权利要求1所述的防反射用光学元件，其特征在于，

所述构造体在所述基体表面形成四边形格子图案或准四边形格子图案，

当将相同轨迹内的所述构造体的配置间隔设定为P1，并将邻接的两个轨迹间的所述构造体的配置间隔设定为P2时，比率P1/P2满足1.4＜P1/P2≤1.5的关系。

7.根据权利要求1所述的防反射用光学元件，其特征在于，

所述轨迹是蛇形轨迹。

8.根据权利要求1所述的防反射用光学元件，其特征在于，

所述构造体的周边部的一部分或全部上设置高度平稳降低的曲面状的裙状部。

9.一种偏光器，其特征在于，在一个主面上包括权利要求1至8中的任一项所述的防反射用光学元件。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至8中的任一项所述的防反射用光学元件。

11.一种显示装置，其特征在于，包括：

具有显示面的面板；以及

设置在所述面板的显示面侧的前面部件，

所述前面部件具有显示面和作为与该显示面相反侧的面的背面，

在所述面板的显示面、所述前面部件的显示面以及所述前面部件的背面的至少一个面上包括权利要求1至8中的任一项所述的防反射用光学元件。

12.一种用于制作防反射用光学元件的原盘的制造方法，其特征在于，包括：

在圆柱状或圆筒状的原盘的周面上形成抗蚀层的步骤；

使形成有所述抗蚀层的所述原盘旋转，并在使激光的光点以平行于所述圆柱状或圆筒状的原盘的中心轴的方式进行相对移动的同时，对所述抗蚀层间歇性地照射激光，以短于可视光波长的间隔形成潜像的步骤；

使所述抗蚀层显影，在所述原盘的表面形成抗蚀图案的步骤；以及

通过实施以所述抗蚀图案作为掩模的蚀刻处理，从而在所述原盘的表面形成凹状或凸状的构造体的步骤，

其中，在所述潜像的形成步骤中，所述潜像被配置成在所述原盘表面构成多列轨迹，且形成六边形格子图案、准六边形格子图案、四边形格子图案或准四边形格子图案，

所述潜像是沿轨迹的延伸方向具有长轴方向的椭圆形状。

13.一种防反射用光学元件的制造方法，其特征在于，包括：

在圆柱状或圆筒状的原盘的周面上形成抗蚀层的步骤；

使形成有所述抗蚀层的所述原盘旋转，并在使激光的光点以平行于所述圆柱状或圆筒状的原盘的中心轴的方式进行相对移动的同时，对所述抗蚀层间歇性地照射激光，以短于可视光波长的间隔形成潜像的步骤；

使所述抗蚀层显影，在所述原盘的表面形成抗蚀图案的步骤；

通过实施以所述抗蚀图案作为掩模的蚀刻处理，从而在所述原盘的表面形成凹状或凸状的构造体的步骤；以及

通过在树脂材料上转印形成在所述原盘上的结构体而制作光学元件，

其中，在所述潜像的形成步骤中，所述潜像被配置成在所述原盘表面构成多列轨迹，且形成六边形格子图案、准六边形格子图案、四边形格子图案或准四边形格子图案，

所述潜像是沿轨迹的延伸方向具有长轴方向的椭圆形状。