[实用新型]离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机有效
| 申请号: | 200920350080.8 | 申请日: | 2009-12-29 |
| 公开(公告)号: | CN201614404U | 公开(公告)日: | 2010-10-27 |
| 发明(设计)人: | 张健;孟凡荣;张军;周景玉;佟辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 白振宇 |
| 地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 离子束 辅助 离子镀 真空镀膜 | ||
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜设备,具体地说是一种离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机。
背景技术
真空镀膜机根据其原理大致可分为以下几类:真空蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机、多弧离子镀镀膜机及离子束溅射镀膜机等。现在产业化中使用较多的镀膜机大多是单一工件原理的镀膜机。对于多弧离子镀镀膜机,由于其生产效率高,工作稳定,便于大批量生产等优点,得到了广泛的应用;但同时也存在薄膜附着力较差,薄膜表面不够光滑等缺点。现有的多弧离子镀镀膜机大多是弧源安装在侧壁,工作悬挂或放置在中间的可旋转工件架上,这种结构对于小型的颗粒样品镀膜效率低下,并且安装样品繁琐,总的生产效率较低。
实用新型内容
为了解决上述存在的问题,本实用新型的目的在于提供一种薄膜光洁度好、附着力大的离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机。该镀膜机采用弧源和离子源同时工作的方式。
本实用新型的另一目的在于提供一种生产效率高的离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机。
本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的:
本实用新型包括真空室、真空抽气系统及机架,真空室安装在机架上,真空抽气系统与真空室密封连接;所述真空室内设有与其密封连接的中心转轴,中心转轴的底端与安装在机架上的驱动电机的输出轴相连接;所述中心转轴的两侧对称设有安装在真空室内壁的离子束和弧源,中心转轴上设有与其共同转动的工件架;该工件架位于离子束和弧源的下方。
其中:所述离子束和弧源为多层、上下设置,每一层离子束和弧源的下方均设有一个与中心转轴共同转动的工件架;所述工件架的上方设有安装在中心转轴上的加热器;加热器通过真空室上的加热电源电极通电工作;所述离子束为条形,所述弧源为圆柱形;所述真空室上设有可开关的真空室前门,在真空室前门上及真空室外壁上分别设有对真空室进行水冷的水冷道;真空室前门上设有用于观察真空室内情况的观察窗。
本实用新型的优点与积极效果为:
1.本实用新型在真空室内安装了离子源和弧源,提高了圆柱靶材的利用率;在镀膜时离子源和弧源同时工作,利用离子源提高工作气体的离化率,对薄膜的光洁度和附着力有很大的提高。
2.本实用新型采用多层工件架设计,可以多层工件架同时安装,每层的工件架均可安放样品,每一层的工件架上方均设有离子源和弧源,每层的离子源和弧源同时镀膜,大大提高了生产效率。
3.每一层工件架的上方还设置有加热器,可以对样品进行加热,以提高薄膜的性能。
4.本实用新型在真空室外壁及真空室前门上均焊接了水冷道,对真空室进行水冷,保证真空镀膜机的正常工作。
5.本实用新型的真空室前门上设置了观察窗,便于观察真空室内的情况。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构主视图;
图2为图去掉真空抽气系统后的俯视剖视图;
图3为图1去掉真空室前门后的正面剖视图;
其中:1为真空室前门,2为离子源,3为水冷道,4为真空室,5为驱动电机,6为机架,7为真空抽气系统,8为低真空计,9为高真空计,10为加热电源电极,11为工件架,12为弧源,13为加热器,14为中心转轴,15为观察窗,16为挡油板。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步详述。
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