[实用新型]等离子显示器滤光片

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种滤光片结构，尤其涉及一种等离子显示器的滤光片结构。

背景技术

滤光片如今已广泛应用于等离子显示领域。目前的等离子显示器的滤光片主要采用丝网滤光片方式，通过贴膜实现铜网屏蔽EMI、NIR(近红外截止)、UV反射和吸收膜滤掉氖的特征谱线。因为叠层层压复合的方法，各种功能膜在各层膜片上，贴合工艺和复合工艺要求高，不易机械化连续生产，成本高，成品率低、生产效率低，透过率低。

实用新型内容

本实用新型通过构建一种等离子显示器滤光片，克服现有技术中滤光片成本高，成品率低、透过率低，生产效率低的技术问题。

本实用新型的技术方案是：构建一种等离子显示器滤光片，包括玻璃基片、镀膜层，在所述玻璃基片的一面镀有防电磁辐射及滤光功能的镀膜层，其特征在于，所述镀膜层为依次重叠沉积AZO层和Ag层至AZO层为外层，所述AZO层为掺铝氧化锌膜层，所述Ag层为银膜层。

本实用新型进一步技术方案是：所述镀膜层为9层。

本实用新型进一步技术方案是：所述镀膜层依次为：AZO层为30nm至50nm，Ag为10nm至17nm，AZO层为60nm至100nm，Ag为10nm至17nm，AZO层为60nm至100nm，Ag为10nm至17nm，AZO层为60nm至100nm，Ag为10nm至17nm，AZO层为30nm至50nm。

本实用新型进一步技术方案是：所述镀膜层为11层。

本实用新型进一步技术方案是：所述镀膜层依次为：AZO层为30nm至50nm，Ag为10nm至17nm，AZO层为60nm至100nm，Ag为10nm至17nm，AZO层为60nm至100nm，Ag为10nm至17nm，AZO层为60nm至100nm，Ag为10nm至17nm，AZO层为60nm至100nm，Ag为10nm至17nm，AZO层为30nm至50nm。

本实用新型进一步技术方案是：所述镀膜采用真空磁控溅射方式镀膜。

本实用新型进一步技术方案是：所述玻璃基片为透明的钢化玻璃或半钢化的玻璃基片。

本实用新型的技术效果是：本实用新型构建的等离子显示器滤光片，可见光透过率高、反射率低，强度高，防电磁辐射能力强，滤光好。

附图说明

图1为本实用新型九层镀膜滤光片结构示意图。

图2为本实用新型十一层镀膜滤光片结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本实用新型技术方案进行进一步说明：

如图1所示，本实用新型的实施方式是，构建一种等离子显示器滤光片，包括玻璃基片1、镀膜层，在所述玻璃基片1的一面镀有防电磁辐射及滤光功能的镀膜层，其特征在于，所述镀膜层为依次重叠沉积AZO层和Ag层至AZO层为外层，所述AZO层为掺铝氧化锌膜层，所述Ag层为银膜层。本实用新型的等离子显示器滤光片，所述镀膜采用真空磁控溅射方式镀膜，所述玻璃基片为透明的钢化玻璃或半钢化的玻璃基片。本实用新型的等离子显示器滤光片，可见光透过率高，强度高，防电磁辐射能力强，滤光好，使用寿命长。

如图1所示，本实用新型的优选实施方式是，所述镀膜层为9层，所述镀膜层依次为：AZO层2为30nm至50nm，Ag层3为10nm至17nm，AZO层4为60nm至100nm，Ag层5为10nm至17nm，AZO层6为60nm至100nm，Ag层7为10nm至17nm，AZO层8为60nm至100nm，Ag层9为10nm至17nm，AZO层10为30nm至50nm。本实用新型的等离子显示器滤光片，方块电阻＜1Ω/□，可见光的透过率在30～70％，可见光的反射率在≤6％，在波长为850nm时，红外光的透过率≤14％，在波长为950nm时，红外光的透过率≤7％。本实用新型的等离子显示器滤光片防电磁辐射能力强，滤光好，寿命长。

如图2所示，本实用新型的优选实施方式是，所述镀膜层为11层，所述镀膜层依次为：AZO层2为30nm至50nm，Ag层3为10nm至17nm，AZO层4为60nm至100nm，Ag层5为10nm至17nm，AZO层6为60nm至100nm，Ag层7为10nm至17nm，AZO层8为60nm至100nm，Ag层9为10nm至17nm，AZO层10为60nm至100nm，Ag层11为10nm至17nm，AZO层12为30nm至50nm。本实用新型的等离子显示器滤光片，方块电阻＜1Ω/□，可见光的透过率在30～70％，可见光的反射率在≤6％，在波长为850nm时，红外光的透过率≤14％，在波长为950nm时，红外光的透过率≤7％。

以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。