[实用新型]一种水平石墨舟

说明书

技术领域

本实用新型涉及太阳电池制造技术领域，尤其涉及在太阳电池生产的过程中使用的石墨舟。

背景技术

在硅基体太阳电池的制造工艺过程中，通常需要采用薄膜沉积工艺进行硅片的镀膜，例如可采用PECVD(Plasma Enhanced Chemical VapourDeposition，等离子增强化学气相沉积)的沉积工艺对硅片进行氮化硅的真空镀膜，使在硅片表面形成防反射层(钝化层)。下面对硅基体太阳电池制造工艺进行简介。

在太阳电池制造过程中，在进行硅片表面镀膜时，将未镀膜的硅片插入PECVD真空镀膜设备的载片器上，通常载片器由石墨舟来实现，即，将未经镀膜的硅片插入石墨舟，然后，将载有硅片的石墨舟放置在PECVD真空镀膜设备腔体内，采用PECVD工艺对硅片进行镀膜。镀膜结束后，从真空镀膜设备腔体内取出石墨舟，然后再将经过镀膜的硅片从石墨舟上卸取下来。

现有的真空镀膜设备所使用的石墨舟一般为垂直式石墨舟。图1所示为现有技术中的垂直式石墨舟的俯视结构示意图；图2为图1中的其中一片石墨舟片的主视图；图3为现有技术中的垂直式石墨舟带有电极一侧的侧面主视图。如图1、图2及图3所示，该垂直式石墨舟主要由以预定间隔垂直布置的多片相互固定的石墨舟片组成，每片石墨舟片的两个表面均设置有多个用于放置硅片的位置10及用于定位硅片的固定部20，多片石墨舟片上还设置有多个垂直于石墨舟片表面而穿过多片石墨舟片的陶瓷棒30，该陶瓷棒30用于将每一层的石墨舟片固定，且陶瓷棒30的端部使用石墨螺丝40固定。在任意两片石墨舟片之间的陶瓷棒30上设置有陶瓷套50，用于将石墨舟片隔开一定的距离留出硅片取放的空间，且可以保证每层石墨舟片之间保持绝缘。该垂直式石墨舟还包括设置在两侧的机械手抓取块60，及设置在一侧的正负电极70。由于组成该垂直式石墨舟的每片石墨舟片的两个表面都设置有可放置硅片的位置，所以只能采用吸笔吸取硅片表面的方式对硅片进行插片和采用吸笔吸取硅片绒面的方式对硅片进行卸片的操作。

可见，现有技术中的垂直式石墨舟存在如下缺点：

1、由于垂直石墨舟需要使用固定部固定硅片，所以在与固定部接触的硅片处会产生工艺点，即此处不能与反应气体充分反应形成有效钝化层，影响了硅片整个表面的镀膜质量；

2、由于新的高效太阳电池的工艺要求不能碰触硅片的绒面，因此现有的垂直式石墨舟无法适用于新的高效太阳电池工艺生产。

3、在将硅片插入垂直式石墨舟或从该垂直式石墨舟上卸取时，硅片容易与石墨舟片发生碰触，从而导致硅片绒面被磨损以致影响产品的性能以及会造成硅片的裂纹或碎片。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种水平石墨舟，该水平石墨舟使得操作者能在不需碰触硅片的制绒面的情况下实现对硅片的插片和卸片，从而可适用于新的高效太阳电池工艺生产过程。

为实现上述目的，本实用新型提供一种水平石墨舟，该水平石墨舟包括以预定间隔水平布置的多片相互固定的石墨舟片，每片所述石墨舟片的上表面沿其长度方向设置有多个适于放置硅片的凹入部，每个所述凹入部具有边缘部和平坦的底部，所述凹入部的处于所述石墨舟片的长度方向的一侧的边缘部构造为适于将所述硅片经该边缘部置入所述凹入部。

作为优选，所述凹入部的处于所述石墨舟片的长度方向的一侧的边缘部构造为斜面或与凹入部的底部齐平以使凹入部在一侧呈开口状。

作为优选，所述凹入部相对于所述石墨舟片的上表面的凹入深度小于所述硅片的厚度。

作为优选，该水平石墨舟还包括固定设置在所述多片石墨舟片底部的石墨舟支架。

作为优选，该水平石墨舟还包括固定设置在所述多片石墨舟片长度方向上的两侧端部的机械手抓块。

作为优选，所述多片石墨舟片的宽度方向上的两侧设置有多个垂直穿过多片石墨舟片的陶瓷棒，所述陶瓷棒处于所述石墨舟片的多个凹入部之间。

作为优选，该水平石墨舟还包括固定于所述陶瓷棒端部的石墨螺丝。

作为优选，该水平石墨舟还包括陶瓷套，其设置在任意两片石墨舟片之间的所述陶瓷棒上。

作为优选，所述水平石墨舟还包括设置在所述多片石墨舟片长度方向上的两侧端部的其中一侧端部上的正负电极。

本实用新型提供的水平石墨舟使得操作人员可以不需碰触硅片的制绒面而实现对硅片进行放片和卸片的操作，因此可以适用于新的高效太阳电池工艺生产；且放置硅片和卸取硅片的操作不易使硅片的制绒面被磨损，从而提高了太阳电池产品的性能；而且由于硅片是在水平放置状态下进行镀膜，无需额外的硅片固定结构，不会产生接触工艺点，从而提高了硅片表面的整体镀膜质量。

附图说明