[实用新型]一种低合金钢表面氮化氧化复合处理装置

权利要求书

1.一种低合金钢表面氮化氧化复合处理装置包括真空炉、进气系统、抽真空系统、供电系统、测温系统，所述的真空炉为离子扩渗设备，由真空炉体和炉门(1)组成；所述的进气系统包括氨气瓶(3)、氧气瓶(4)、氩气瓶(5)、流量控制器和进气口(2)，进气口(2)安装在真空炉侧；所述的供电系统采用脉充直流高压电源或直流溅射高压电源；所述的测温系统为常用S型热电偶(13)，安装在距载物台(10)2～4cm的位置；所述的抽真空系统包括真空泵(14)及其管路，所述的真空泵(14)通过管路与真空炉的底座相连；其特征在于：所述的真空炉内安装有空心阴极辅助装置和工件平台，所述的空心阴极辅助装置由两个直径不同且带有孔洞的小圆筒(7)和大圆筒(8)组成，所述的小圆筒(7)和大圆筒(8)构成同轴双层圆筒，位于绝缘环(12)上，并通过绝缘环(12)隔离，所述的小圆筒(7)和大圆筒(8)分别与电源(6)的阴极连接，所述的小圆筒(7)放置有绝缘陶瓷片(15)；所述的工件平台包括支座(11)和载物台(10)，所述的支座(11)位于真空炉底座上；所述的载物台(10)由不锈钢板制成，位于支座(11)上，用于放置工件(9)，所述的载物台(10)和真空炉的炉壁分别与电源(6)的阳极连接。

2.根据权利要求1所述的一种低合金钢表面氮化氧化复合处理装置，其特征在于：所述的支座(11)由导电材料或绝缘材料制成。

3.根据权利要求1所述的一种低合金钢表面氮化氧化复合处理装置，其特征在于：所述的小圆筒(7)和大圆筒(8)由低碳钢制成，小圆筒(7)的直径为350～400mm，大圆筒(8)的直径为364～418mm，小圆筒(7)上平均分布直径为11～12mm的孔洞，孔洞间距为12～15mm；保持大圆筒(8)与小圆筒(7)的间距为7～9mm；所述的绝缘陶瓷片(15)厚度为7～10mm，其直径略大于小圆筒(7)的直径。