[实用新型]一种镀铜槽的铜离子平衡装置

说明书

技术领域

本实用新型提供一种镀铜槽的铜离子平衡装置。

背景技术

目前，制版公司在日常的镀铜环节中常常出现铜离子过剩的现象，通常的处理方法是稀释铜液，即在镀铜槽中加入水，但是由于镀铜槽空间有限，只能通过抽出部分高浓度铜液才能腾出空间对镀铜槽中的铜液进行稀释，这样在整个镀铜环节中会耗费大量的时间和人力，应用不方便。

实用新型内容

根据以上现有技术中的不足，本实用新型要解决的技术问题是：提供一种镀铜槽的铜离子平衡装置，能够解决镀铜槽中铜离子浓度增大的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种镀铜槽的铜离子平衡系统，其特征在于：镀铜槽外部设有循环泵和反应槽，循环泵上连接抽入管和输出管，抽入管插入镀铜槽溶液，输出管插入反应槽溶液，反应槽下部连接回流管，回流管的另一端连入镀铜槽中。

所述的反应槽与一高频电源相连接，高频电源的正极通过导线连接铜板，负极通过导线连接还原性强于铜的金属板，该金属板优选铅、钛等耐腐蚀、导电性强的材质，金属板和铜板都浸入反应槽的反应液面以下。

所述的回流管上设置阀门，能够控制反应槽的反应液面高度维持在标准范围内。

工作过程及原理：

当镀铜槽中溶液的铜离子浓度过高时，用循环泵将镀铜槽中的部分溶液抽出，并通过输出管输入反应槽中，反应槽与高频电源相连接，通电后铜液中的铜慢慢析出，从而使反应槽溶液中的铜离子减少，之后再通过回流管将稀释溶液通入镀铜液中，使镀铜槽的铜液达到标准浓度。

本实用新型所具有的有益效果是：提供一种镀铜槽的铜离子平衡装置，通过设置循环泵和反应槽，使镀铜槽中溶液的铜离子浓度超过铜液标准时，能够将浓溶液抽入反应槽，并在反应槽中发生反应，置换出铜液中过剩的铜离子，从而达到稀释铜液的作用。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

其中：1、镀铜槽；2、循环泵；3、反应槽；4、抽入管；5、输出管；6、回流管；7、高频电源；8、导线；9、铜板；10、金属板；11、阀门。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的实施例做进一步描述：

一种镀铜槽的铜离子平衡装置，在镀铜槽1外部设有循环泵2和反应槽3，循环泵1上连接抽入管4和输出管5，抽入管4插入镀铜槽1的溶液中，输出管5插入反应槽3溶液，反应槽3下部连接回流管6，回流管6的另一端连入镀铜槽1中。反应槽3与一高频电源7相连接，高频电源7的正极通过导线8连接铜板9，负极通过导线8连接还原性强于铜的金属板10，该金属板10和铜板9都浸入反应槽3的反应液面以下。所述的回流管6上设置阀门11。

工作过程及原理：

当镀铜槽中溶液的铜离子浓度过高时，用循环泵将镀铜槽中的部分溶液抽出，并通过输出管输入反应槽中，反应槽与高频电源相连接，通电后铜液中的铜慢慢析出，从而使反应槽溶液中的铜离子减少，之后再通过回流管将稀释溶液通入镀铜液中，使镀铜槽的铜液达到标准浓度。