[实用新型]多重场板LDMOS器件有效
申请号: | 200920269322.0 | 申请日: | 2009-11-03 |
公开(公告)号: | CN201540894U | 公开(公告)日: | 2010-08-04 |
发明(设计)人: | 陈强;马强 | 申请(专利权)人: | 苏州远创达科技有限公司;远创达科技(香港)有限公司;远创达科技(开曼)有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L21/336 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 范晴 |
地址: | 215123 江苏省苏州市工业园区独墅*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多重 ldmos 器件 | ||
1.一种多重场板LDMOS器件,包括半导体本体(1),其特征在于:所述半导体本体(1)表面设有至少两个场板(2),所述每个场板(2)具有与半导体本体(1)表面平行的水平部分(21),不同场板(2)的水平部分(21)与半导体本体(1)表面之间的距离不等。
2.根据权利要求1所述的多重场板LDMOS器件,其特征在于:所述场板(2)位于半导体本体(1)的漏漂移区(11)的上方。
3.根据权利要求1或2所述的多重场板LDMOS器件,其特征在于:所述至少两个场板(2)的水平部分(21)与半导体本体(1)表面的距离逐次递增。
4.根据权利要求3所述的多重场板LDMOS器件,其特征在于:所述至少两个场板(2)的水平部分(21)与半导体本体(1)表面的距离成均匀线性逐次递增。
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