[实用新型]一种金属工件内外表面电化学抛光处理装置有效
| 申请号: | 200920263905.2 | 申请日: | 2009-12-01 |
| 公开(公告)号: | CN201581151U | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
| 发明(设计)人: | 邱胜宝;马国欣 | 申请(专利权)人: | 广州中国科学院工业技术研究院 |
| 主分类号: | C25F3/16 | 分类号: | C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 王茹;曾旻辉 |
| 地址: | 511458 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 金属 工件 内外 表面 电化学 抛光 处理 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种金属工件内外表面电化学抛光处理装置。
背景技术
在对管状或筒状金属工件的内外表面进行抛光处理的过程中,常用的方法有机械法和电化学法,然而机械法对加工设备的要求比较高,且操作难度比较大;而现有技术中的电化学法只能对金属工件的内表面或外表面进行抛光处理,在对金属工件的内外表面进行抛光处理时,需要使用两个电化学抛光处理装置,一个对金属工件的内表面进行电化学抛光处理,另一个对金属工件的外表面进行电化学抛光处理,使用起来很不方便,且成本相对比较高。
发明内容
本实用新型提供了一种金属工件内外表面电化学抛光处理装置,能对金属构件的内外表面选择性的进行电化学抛光处理。
本实用新型的技术方案是:一种金属工件内外表面电化学抛光处理装置,包括内置有电解液的电解槽、电化学抛光电源、第一辅助阴极、第二辅助阴极和双向开关;
所述第一辅助阴极、第二辅助阴极和金属工件内置于电解液中;所述第一辅助阴极包围在所述金属工件外侧,所述第二辅助阴极设置在所述金属工件的内部;所述电化学抛光电源的正极与所述金属工件连接,所述双向开关的一端与所述电化学抛光电源的负极连接,另一端选择的与所述第一辅助阴极或第二辅助阴极连接。
本实用新型金属工件内外表面电化学抛光处理装置,在双向开关选择与第一辅助阴极连接时,可以实现对金属工件外表面的电化学抛光处理,在双向开关选择与第二辅助阴极连接时,可以实现对金属工件内表面的电化学抛光处理;由此可见本实用新型可以对金属工件的内表面和外表面进行选择性的电化学抛光处理,使用方便,且能节省成本。
附图说明
图1是本实用新型金属工件内外表面电化学抛光处理装置在一实施例中的结构示意图。
具体实施方式
本实用新型金属工件内外表面电化学抛光处理装置,在双向开关选择与第一辅助阴极连接时,可以实现对金属工件外表面的电化学抛光处理,在双向开关选择与第二辅助阴极连接时,可以实现对金属工件内表面的电化学抛光处理;由此可见本实用新型可以对金属工件的内表面和外表面进行选择性的电化学抛光处理,使用方便,且能节省成本。
下面结合附图对本实用新型的具体实施例做一详细的阐述。
本实用新型金属工件内外表面电化学抛光处理装置,可以实现对管状或筒状金属工件的内外表面的电化学抛光处理,如图1,其包括内置有电解液8的电解槽1、电化学抛光电源2、第一辅助阴极3、第二辅助阴极4和双向开关5;
所述第一辅助阴极3、第二辅助阴极4和金属工件内置于电解液8中;所述第一辅助阴极3包围在所述金属工件6外侧,所述第二辅助阴极4设置在所述金属工件6的内部;所述电化学抛光电源2的正极与所述金属工件6连接,所述双向开关5的一端与所述电化学抛光电源2的负极连接,另一端选择的与所述第一辅助阴极3或第二辅助阴极4连接。
当第一辅助阴极3与双向开关5的a侧接通时,可实现对金属工件6外表面的电化学抛光处理;当第二辅助阴极4与双向开关5的b侧接通时,可以实现对金属工件6内表面的电化学抛光处理。
由此可见,本实用新型可以对金属工件内外表面进行选择性的电化学抛光处理,使用方便,且相对于使用两个电化学抛光处理装置而言节省了成本。
在一较优实施例中,所述第一辅助阴极3可以是圆环状,这样金属工件6外表面和第一辅助阴极3的距离比较一致,提高了金属工件6外表面的抛光厚度的一致性;另外所述第二辅助阴极4可以是棒状或条状,当然还可以是其他的结构形状。
在一较优实施例中,在所述电解槽1内还设置有转盘7,金属工件6置于所述转盘7上面,该转盘7可以在电化学抛光处理时带动所述金属工件6转动,这样可以动态的调整金属工件6外表面与第一辅助阴极3的距离,及金属工件6内表面与第二辅助阴极4的距离,能进一步的提高金属工件6内外表面的抛光厚度的一致性,降低金属工件6内外表面的粗糙度,提高了电化学抛光处理质量,又可保证操作安全;且在该较优实施例中,本实用新型易组装、电化学抛光处理效率高。
以上所述的本实用新型实施方式,并不构成对本实用新型保护范围的限定。任何在本实用新型的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的权利要求保护范围之内。
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