[实用新型]一种内衬及应用该内衬的等离子装置有效
| 申请号： | 200920246343.0 | 申请日： | 2009-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN201584396U | 公开（公告）日： | 2010-09-15 |
| 发明（设计）人： | 彭宇霖 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/16 | 分类号： | H01J37/16;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 胡剑辉;王漪 |
| 地址： | 100015 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 内衬 应用 等离子 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种内衬，包括：筒壁和底部，其特征在于，筒壁和底部之间具有曲面过渡段，在所述曲面过渡段和底部上均设置有贯通口。
2.如权利要求1所述的内衬，其特征在于，所述曲面过渡段为圆角过渡段。
3.如权利要求1所述的内衬，其特征在于，所述曲面过渡段为椭圆面过渡段、抛物线面过渡段或渐开线面过渡段。
4.如权利要求1所述的内衬，其特征在于，所述贯通口为长条形通风孔。
5.如权利要求4所述的内衬，其特征在于，所述长条形通风孔沿所述底部和圆角过渡段的径向延伸，并在周向上间隔适当的距离均匀分布。
6.如权利要求4所述的内衬，其特征在于，所述长条形通风孔沿所述底部和圆角过渡段的周向延伸，并沿径向间隔适当的距离。
7.如权利要求5或6所述的内衬，其特征在于，所述间隔适当的距离为3～5mm。
8.一种等离子体装置，包括内部设置基片夹持装置的反应腔室、真空获得系统，其特征在于，所述反应腔室内设置有如权利要求1到7任一项所述的内衬。
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