[实用新型]主轴真空动密封系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种应用于旋转涂胶、显影定影过程中真空吸附高速旋转片料的系统，具体涉及一种主轴真空动密封系统。

背景技术

涂胶显影类设备是IC生产线上的关键设备之一，主要用于半导体集成电路、晶体管、LED、MEMS等生产中基片的涂胶、显影工艺。光刻的基本工艺是由光刻胶涂敷、曝光及显影等三大步骤构成的，由于光刻胶内含有溶剂，使得光刻胶本身能以液态的形式存在，因此在光刻胶涂敷工序中大多利用高速旋转的方式，借助离心力将光刻胶均匀的涂敷在片料衬底上，衬底表面形成一层厚度均匀、附着性强，且无任何缺陷的光刻胶层。目前，对高速旋转片料的装夹、固定设备普遍存在装夹不牢固，在装夹过程中很容易对片料造成污染等问题。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足，提供一种主轴真空动密封系统，其结构合理、生产工艺简单、装夹牢固、不对片料造成任何污染、自动化程度高、生产成本低，便于推广使用。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种主轴真空动密封系统，包括真空气源，以及控制整个系统中真空启闭及大小的精密真空度检测开关，其特征在于：所述真空气源出口通过真空管道与真空电磁阀入口相连接，所述真空电磁阀出口通过真空管道与真空陷阱相连接，所述真空陷阱通过真空管道与主轴旋转密封模块入口相连接，所述真空陷阱与主轴旋转密封模块之间的管道上设置有精密真空度检测开关。

所述主轴旋转密封模块包括内部设置有竖向贯通轴孔、上阶梯槽及下阶梯槽的密封块，所述密封块内部垂直于轴孔方向设置有真空通道，所述轴孔内部安装有空心轴，空心轴的侧壁上对应真空通道的位置开有小孔，所述上阶梯槽内依次安装有压板一、底圈一和密封圈一，所述底圈一与空心轴之间设置有密封套一，所述密封套一内部安装有密封圈二，所述下阶梯槽内依次安装有压板二、底圈二和密封圈三，所述底圈二与空心轴之间设置有密封套二，所述密封套二内部安装有密封圈四。

所述真空电磁阀为两位两通真空电磁阀。

所述压板一和压板二均通过螺纹与密封块相连接。

所述密封圈一、密封圈二、密封圈三和密封圈四均为O型密封圈。

本实用新型与现有技术相比具有以下优点：

(1)结构合理、生产工艺简单。该主轴真空动密封系统结构合理，生产工艺简单；

(2)装夹牢固、不对片料造成任何污染。该主轴真空动密封系统采用真空吸附高速旋转片料，因此装夹牢固、不对片料造成任何污染；

(3)自动化程度高。通过控制两位两通真空电磁阀的开闭，控制整个进入系统中的真空启闭及大小；通过设置精密真空度检测开关数据大小，判断真空度是否满足当前要求；

(3)制作简单、生产成本低、便于推广使用。该主轴真空动密封系统很多部件都非常便于生产、购买，因而其生产成本很低，便于推广使用。

下面通过附图和实施例，对本实用新型做进一步的详细描述。

附图说明

图1为本实用新型的真空管路控制系统原理图。

图2为本实用新型密封块的结构示意图。

图3为本实用新型主轴旋转密封模块的结构示意图。

附图标记说明：

1-真空气源；         2-真空电磁阀；  3-真空陷阱；

4-主轴旋转密封模块； 5-精密真空度检测开关；

4-1-密封块；         4-2-轴孔；      4-3-上阶梯槽；

4-4-下阶梯槽；       4-5-真空通道；  4-6-空心轴；

4-7-压板一；         4-8-底圈一；    4-9-密封圈一；

4-10-密封套一；      4-11-密封圈二； 4-12-压板二；

4-13-底圈二；        4-14-密封圈三； 4-15-密封套二；

4-16-密封圈四。

具体实施方式

如图1所示，本实用新型一种主轴真空动密封系统，包括真空气源1，以及控制整个系统中真空启闭及大小的精密真空度检测开关5，所述真空气源1出口通过真空管道与真空电磁阀2入口相连接，所述真空电磁阀2出口通过真空管道与真空陷阱3相连接，所述真空陷阱3通过真空管道与主轴旋转密封模块4入口相连接，所述真空陷阱3与主轴旋转密封模块4之间的管道上设置有精密真空度检测开关5。