[实用新型]一种反应釜清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种清洗装置，尤其涉及一种反应釜清洗装置，适用于清洗喇叭形的反应釜。

背景技术

反应釜是化工、多晶硅生产中的一种化学反应容器，多晶硅的生长和化学物质的合成中会产生各种依附在反应釜内部的物质。在这些物质中，可能含有有毒物质，也可能会含有影响下次化学反应的物质，因此，在反应釜使用后，必须清洗依附在反应釜内壁的物质。

目前，采用人工清洗反应釜内壁的物质，具体方式是：操作人员拽着水管进入反应釜内部空间，然后用水管对准反应釜内壁，利用水管产生的水柱冲洗反应釜内壁的物质。

上述清洗方式虽然能清洗掉一部分物质，但是，存在如下缺点：

1、反应釜内部常常依附有有毒物质，因此，当操作人员清洗反应釜内壁时候，有毒物质会影响操作人员的健康。

2、人工清洗反应釜的内壁时候，清洗的干净程度完全靠操作者的感官判断，因此，不能完全的清洗干净反应釜内壁。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种反应釜清洗装置，该装置不仅能自动清洗反应釜，而且清洗干净。

为达到上述的目的，本实用新型所采取的技术方案是：

一种反应釜清洗装置，其包括，底座，其为一箱体结构，包括侧板、顶板，侧板设置有通孔，顶板上设置有进风口和排污口；烘干系统，包括风机和烘干管道，该烘干管道一端与风机连接，另一端穿入底座内而与进风口连通；喷射清洗水压系统，包括高压水泵、与高压水泵连接的水管和控制阀、支撑管、旋转喷头；该水管一端穿入底座内；支撑管固定在底座顶板上，与水管连通；旋转喷头设置于支撑管出口端；PLC控制器，与所述风机和高压水泵电性连接。

进一步，所述底座两侧板设置有供烘干管道和水管穿入的通孔。

所述喷射清洗水压系统的旋转喷头包括旋转件及其上的喷头。

所述旋转件为若干齿轮、翼片；齿轮相互啮合，翼片设置于齿轮上。

另外，所述喷射清洗水压系统还包括与所述支撑管连通的侧支管，该侧支管上安装有高压喷头，该高压喷头的喷嘴对应反应釜内侧壁或/和视窗。

又，所述高压喷头设有若干个，分别设置于若干连接管，各连接管连通于侧支管，喷嘴设置于连接管出口端；而且，各连接管成不同角度设置，连接管上设有球阀。

所述连接管成U形。

再有，本实用新型所述烘干系统包括位于烘干管道内的电加热器和过滤器，电加热器与PLC控制器电气连接。

所述底座的顶板四角还设置有定位销。

所述喷射清洗水压系统还包括在与高压水泵连接的水管管路上设置的蓄能器、压力调整器，压力调整器与蓄能器之间设置的安全阀以及通过管路分别与压力调整器连接的气动开关球阀和压力变送器，气动开关球阀和压力变送器分别与PLC控制器电气连接。

本实用新型的的有益效果是：

1、本实用新型通过PLC控制器控制喷射清洗水压系统的高压泵产生高压水，该高压水经过喷射系统的旋转喷头形成水刀，清洗反应釜内壁，实现自动清洗，而且，由于通过高压泵产生水刀，因此，清洗较现有方法更加干净。

2、清洗后通过烘干系统的电加热器利用热空气烘干反应釜内壁，可以提高烘干速度。

3、烘干系统中过滤器可以对空气进行过滤，确保清洗后的反应釜不被污染。

附图说明

图1是本实用新型反应釜清洗装置一实施例的结构示意图；

图2是本实用新型底座的结构示意图；

图3是本实用新型旋转喷头的结构示意图；

图4是本实用新型PLC控制示意图。

具体实施方式

下面结合附图进一步说明本实用新型的结构特征。

如图1～图4所示，本实用新型反应釜清洗装置包括底座1、烘干系统2、喷射清洗水压系统3、PLC控制器4。

如图2所示，底座1，其为一箱体结构，包括侧板11、顶板12，底座1的顶板12上设置有进风口121、进水口122和排污口123。底座1的侧板11包括内侧板111和外侧板112，内侧板111和外侧板112呈圆环形，形成底座1的内圈和外圈；内侧板111和外侧板112上开设有相应的通孔。排污口123上连接有排污管道124。

如图1所示，烘干系统2，包括风机21和烘干管道22，该烘干管道22与风机21连接，并从底座1侧板11的通孔穿入底座1，与进风口121连通。