[实用新型]化学气相沉积设备有效
| 申请号： | 200920211681.0 | 申请日： | 2009-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN201530864U | 公开（公告）日： | 2010-07-21 |
| 发明（设计）人： | 李景伦 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/455 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 设备 | ||
1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括：
进气管路；
与所述进气管路连通的第一传输管路；
与所述第一传输管路连通的第一反应腔；
与所述进气管路连通的第二传输管路；
与所述第二传输管路连通的第二反应腔；
其中，所述进气管路是螺旋式管路。
2.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第一传输管路是直管。
3.如权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第二传输管路是直管。
4.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第一传输管路是螺旋式管路。
5.如权利要求4所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第二传输管路是螺旋式管路。
6.如权利要求1至5中任意一项所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述进气管路的直径小于1cm。
7.如权利要求6所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第一传输管路的直径小于1cm。
8.如权利要求7所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第二传输管路的直径小于1cm。
9.如权利要求6所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述进气管路的展开长度与所述第一传输管路的长度之和小于100cm。
10.如权利要求9所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述进气管路的展开长度与所述第二传输管路的长度之和小于100cm。
11.如权利要求6所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括设置于所述第一反应腔内的第一支撑基座以及设置于所述第一支撑基座内的第一加热元件。
12.如权利要求11所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括设置于所述第一支撑基座内的第一测温装置。
13.如权利要求6所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括设置于所述第二反应腔内的第二支撑基座以及设置于所述第二支撑基座内的第二加热元件。
14.如权利要求13所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括设置于所述第二支撑基座内的第二测温装置。
15.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括包覆于所述进气管路外的加热装置。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
