[实用新型]一种多注行波管吸收器铜环的钎焊装置无效

专利信息
申请号: 200920180964.3 申请日: 2009-12-04
公开(公告)号: CN201552353U 公开(公告)日: 2010-08-18
发明(设计)人: 李园;李玉珍;刘莉;戴正婷 申请(专利权)人: 安徽华东光电技术研究所
主分类号: B23K3/00 分类号: B23K3/00;B23K3/08;B23K101/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 241002 安徽省芜*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 行波 吸收 铜环 钎焊 装置
【说明书】:

【技术领域】

实用新型是关于一种微波真空器件的钎焊装置,特别涉及一种多注行波管吸收器铜环的钎焊装置。

【背景技术】

在行波管中,为防止自激振荡的发生,提高行波管工作的稳定性,必须在慢波系统上堵塞或削弱反馈信号,因此,在耦合腔慢波系统中常设置一段衰减量很大的体吸收器。由于行波管是微波真空器件,零件数量多、焊缝多、部件长,在钎焊时既要保证很好的同心度和装配尺寸又要保证真空气密性。因此,对钎焊质量要求特别高,而钎焊的装置是保证获得高质量的钎焊的一个前提条件。以前的吸收器铜环钎焊装置大多采用支架、压块等组成且每次只能单个焊接,钎焊后铜环与吸收器的平面差大小不一、易漏气,焊接后废品较多,每个装置能焊接的吸收器铜环数量较少。

【实用新型内容】

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种多注行波管吸收器铜环的钎焊装置,达到既可以使装配好的铜环和吸收器的相对位置不发生改变,在钎焊时焊料流淌均匀,而且每次焊接的数量增多的目的。

本实用新型是通过以下技术方案解决上述技术问题的:一种多注行波管吸收器铜环的钎焊装置,包括底盘、盖板、垫块、管,及柱,所述底盘以及盖板固定在一起,且底盘以及盖板之间相距一定距离,所述底盘是圆环形,在外围设置一圈复数个安放焊接物的具有台阶的圆孔,所述垫块是圆形,放置在圆孔内,垫块的底端抵在圆孔中的台阶上,所述垫块顶端圆周带有台阶,且垫块顶端低于底盘上表面,所述装配好铜环的吸收器放置在圆孔内,位于垫块的上方,所述盖板是圆环形,盖板的外围对应底盘上的圆孔的位置分别开设有圆形通孔,所述管穿过盖板上的通孔压在所述装配好铜环的吸收器上,所述柱插入管中,柱的底端也压在装配好铜环的吸收器上。

还包括螺栓,所述底盘以及盖板之间通过螺栓固定在一起。

所述装配好铜环的吸收器包括吸收器,位于吸收器外围的铜环,以及位于吸收器与铜环之间的钼环及焊料,所述钼环已经钎焊在吸收器陶瓷外侧,所述焊料位于钼环的上方,所述管压在所述装配好铜环的吸收器的铜环上,所述柱压在所述装配好铜环的吸收器的吸收器以及焊料上。

所述管的内径大于等于铜环的内径,小于等于盖板的通孔的直径,所述柱的外径小于等于铜环的内径,大于等于吸收器的内径。

所述盖板上沿圆心对称设有两个钩子。

本实用新型一种多注行波管吸收器铜环的钎焊装置的优点在于:由于采用上述结构,既保证了吸收器和铜环之间的装配位置,圆环形装置设计便于装配便利,每次焊接的数量增多,且在钎焊的过程中,因温度的升高,焊料融化,柱的高度可以随焊料的状态发生改变,柱的重量能促使焊料流淌更好,使焊接质量更佳。

【附图说明】

下面参照附图结合实施例对本实用新型作进一步的描述。

图1为本实用新型一种多注行波管吸收器铜环的钎焊装置的主视图。

图2为本实用新型一种多注行波管吸收器铜环的钎焊装置的俯视图。

图3为本实用新型中的垫块在底盘中的结构示意图。

图4为本实用新型中的管的结构示意图。

图5为本实用新型中的柱的结构示意图;

图6为装配好铜环的吸收器示意图。

其中,1、底盘;12、圆孔;2、盖板;3、螺栓;4、垫块;5钩子;6、管;7、柱;8、装配好铜环的吸收器;82、吸收器;84、铜环;86、钼环;88、焊料。

【具体实施方式】

请参阅图1至图6所示,本实用新型一种多注行波管吸收器铜环的钎焊装置包括底盘1、盖板2、螺栓3、垫块4、管6、柱7。

所述底盘1是圆环形,在外围设置一圈安放焊接物的具有台阶的圆孔12。所述垫块4是圆形,放置在圆孔12内,垫块4的底端抵在圆孔12中的台阶上,因此,不会掉落下来。所述垫块4顶端圆周也带有台阶,且垫块4顶端低于底盘1上表面。所述装配好铜环的吸收器8也放置在圆孔12内,位于垫块4的上方。

所述盖板2是圆环形,盖板2的外围对应底盘1上的圆孔12的位置分别开设有圆形通孔(图未标示)。所述底盘1以及盖板2之间通过螺栓3固定在一起,且底盘1以及盖板2之间相距一定距离。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽华东光电技术研究所,未经安徽华东光电技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920180964.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top