[实用新型]非接触式吸嘴

说明书

【技术领域】

本实用新型是关于一种非接触式吸嘴，特别是关于一种应用于压差吸附领域的非接触式吸嘴结构。

【背景技术】

在电子产业或光学产业中，对于半导体晶圆或太阳能光电板的制造过程中所必需进行的移位活动，可借由真空吸嘴进行吸取、移位及放置等连续动作，而能对于上述光电半导体薄片形工件进行移位活动，而由于真空吸嘴是以吸引空气所形成的真空状态，使光电半导体薄片形工件能被真空吸嘴所吸附，故其容易因为完全接触抵压而损坏光电半导体薄片形工件所蚀刻布设的电路，故于目前业界，已逐渐朝向非接触式吸嘴进行研究。

该非接触式吸嘴，对于光电半导体薄片形工件的吸附作用，是利用白努力原理(Bernoulli)，将气体由吸嘴处向外喷出，使吸嘴与其下方的光电半导体薄片形工件间形成负压，而与周围外界空气压力形成压差，使光电半导体薄片形工件能向上引动，且令光电半导体薄片形工件周缘能抵压于该非接触式吸嘴周缘所设置的数个抵压块底面，而能吸附光电半导体薄片形工件进行移位操作。

如图6所示，上述非接触式吸嘴的数个抵压块皆为圆形柱杆，而当非接触式吸嘴所喷出的气流撞及该数个抵压块表面时，于该数个抵压块的迎风面背侧会形成半真空状态，而对于流过抵压块表面的气流会形成牵引作用，导致该处压差抵减破坏，而必需喷出更强的气流才能弥补，造成喷出气体的装置，必需耗费更大的功率，消耗更多的能源，才能达到较佳的定位吸附效果。

【实用新型内容】

本实用新型设计目的在于，提供一种「非接触式吸嘴」结构，而能解决现有非接触式吸嘴于操作上的压差易遭破坏的缺点，以达到稳定吸附光电半导体薄片形工件的实用功效。

为达成上述目的的结构特征及技术内容，本实用新型「非接触式吸嘴」，其包括：

一吸嘴座，该吸嘴座包含一作用面，该吸嘴座于作用面处形成一锥形槽，该锥形槽于作用面处形成扩大开口及相对于扩大开口端形成缩小部，于该缩小部处设置一喷气道与外界连通；

一锥体，其包含一平面及位于该平面周围的锥面，该锥体设置于上述吸嘴座的锥形槽中，是以平面位于该锥形槽扩大开口下缘，而在该锥面与锥形槽面之间形成气流通道；

数个抵压块，该数个抵压块形成水滴形柱杆状，该数个抵压块一端设置于上述吸嘴座的作用面周缘，且该数个水滴形柱杆状的抵压块周围一侧形成宽弧面，该宽弧面是面向于上述吸嘴座的作用面中间处。

借此设计，使喷出的气流能顺畅的流经抵压块，而不会产生乱流，造成压差状态的破坏，因此，本实用新型设计，可产生较佳的压差状态，而能对于光电半导体薄片形工件进行稳定的吸附操作。

【附图说明】

图1：本实用新型外观示意图。

图2：本实用新型组合剖视图。

图3：本实用新型仰视图。

图4：本实用新型抵压块的宽弧面迎向喷气端的流体流动示意图。

图5：本实用新型吸附光电半导体薄片形工件的实施例示意图。

图6：现有非接触式吸嘴的抵压块为圆形柱杆状，而对于喷气的气体流经该处的示意图。

(10)吸嘴座        (11)作用面

(12)锥形槽        (13)喷气道

(14)气流通道      (15)抵压块

(151)宽弧面       (20)锥体

(21)平面          (22)锥面

(23)支撑块        (30)光电半导体薄片形工件

(40)载台

【具体实施方式】

本实用新型设计，在非接触式吸嘴的气流通道上设置水滴形柱杆状的抵压块，使喷出的气流能顺畅的流经该抵压块，而不会产生乱流牵引的压差抵减，达到稳定吸附光电半导体薄片形工件的实用功效。

配合参看图1、图2及图3所示，本实用新型「非接触式吸嘴」包括一吸嘴座10、一设置于吸嘴座10中的锥体20，该吸嘴座10与该锥体20间形成气流通道14，该吸嘴座10中设置一喷气道13，该喷气道13一端与气流通道14连通，该喷气道13另端连通外界，而可与外界喷气装置的喷气元件相连接，使喷气装置喷出的气流可经由喷气道13及气流通道14向外喷出，其中：

该吸嘴座10包含一作用面11，该吸嘴座10于作用面11处形成一锥形槽12，该锥形槽12于作用面11处形成扩大开口及相对于扩大开口端形成缩小部，于该缩小部处设置一喷气道13与外界连通。