[实用新型]用于在真空下实施衬底的表面处理的设备

权利要求书

1.一种用于在真空下实施衬底的表面处理的设备，所述设备包括外壳，所述外壳具有与至少一个真空源相通的至少两个室，所述至少两个室中的至少一个室被设计成起到能够暴露于大气的真空锁定室的作用，衬底可被引入到所述至少一个室中并可被去除以进入剩余的室，其特征在于，所述外壳具有上部外壳半部分和下部外壳半部分以及旋转器，所述上部外壳半部分和下部外壳半部分的外周通过韧性密封构件连接，所述外壳半部分中的至少一个具有凹陷，所述凹陷预期构成所述室中的至少一些，所述旋转器枢轴旋转地安装在所述外壳半部分之间且具有衬底预期置于其中的凹陷，所述外壳半部分被设计成在产生力的构件的作用下，从第一位置移动至第二位置，在所述第一位置，所述外壳半部分通过与所述旋转器的紧密密封接触而阻止所述旋转器旋转，在所述第二位置，所述上部外壳半部分和下部外壳半部分与所述旋转器分开，以便允许所述旋转器旋转至预定的位置，在所述预定的位置处，所述旋转器内的至少一个凹陷至少部分地与所述室中的一个重合，从而允许衬底在所述室之间移动。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述上部外壳半部分和下部外壳半部分被设计成，当所述产生力的构件不再作用在所述外壳半部分之间时，所述上部外壳半部分和下部外壳半部分从所述第二位置呈现到所述第一位置。

3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述上部外壳半部分和下部外壳半部分都具有相对的且一致的凹陷，且所述旋转器内的凹陷是贯通凹陷。

4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述真空锁定室的外周设置有密封构件，所述密封构件被设计成当所述外壳半部分处于其第一位置时，密封所述真空锁定室而与所述外壳的其余部分和所述旋转器隔离。

5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述剩余的室中的至少一个室的外周设置有密封构件，所述密封构件被设计成当所述外壳半部分处于其第一位置时，密封所述至少一个室而与所述外壳的其余部分和所述旋转器隔离。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述室被设计成与同一个真空源相通。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述室中的至少一个室被设计成与真空源相通，所述真空源被设计成仅与前述的室相通。

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述韧性密封构件是金属波纹管。

9.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述密封构件是O型环。

10.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述产生力的构件是液压缸。