[实用新型]保护滚轮的外罩装置

说明书

技术领域

本实用新型是关于传送沉积系统中的基材的领域。特别地是，本实用新型是揭示用于改善一基材沉积系统制程成效的装置及其方法。

背景技术

光电伏特装置、光电转换装置或太阳电池为可将光(特别是阳光)转换成直流电力的装置。为了廉价大量生产，薄膜太阳电池是想要的，由于其允许将玻璃、玻璃陶瓷或其它坚硬或弹性基材当作基底材料(即是基材)使用，取代结晶或多晶硅。太阳电池结构(即是负责或能够发挥光电伏特效果的层序列)沉积在薄层中。

该等层的沉积通常是在一CVD系统中完成。反应物(例如先驱物材料)通过所谓气体冲洗而馈入制程站。待处理(例如涂层)的基材(例如工作部件)被置于热板(即是一基材载体)上加热，以建立用于在基材表面上沉积的较佳环境。通常，这些至少部分的反应物会被沉积，然而残留物会经由排气构件(例如真空泵)加以排除。

随着传统系统，基材通过滚轮组(从下方支撑基材)，透过系统予以水平传送。通常，基材是矩形或方形片玻璃、玻璃陶瓷、微晶玻璃、塑料或甚至金属。滚轮通常例如经由传动轴，通过马达予以促动。

当这些滚轮配置在制程室内(例如CVD统的的制程站)时，滚轮会暴露于制程气体，例如反应物及/或前驱物，且如此将会随时间涂层。此涂层会负面影响系统的制程成效。首先，滚轮会受到涂料的污染，且在进一步使用滚轮涂层期间，将传输至基材的低端并将被黏住。如此，随后系统的随后系统成效会受到负面影响。其次，配置在用于传送基材的滚轮上的O型环涂层将会慢慢地建立并在特定某些薄膜厚度上开始剥落。这些薄片会污染制程室并负面影响基材的涂层。

结果，存在对于改善此系统制程成效的需要。

实用新型内容

本实用新型的目的是要改善基材处理系统的流程成效，特别是改善用于基材处理系统的滚轮成效。

因此，此目的可通过一装置达成，该装置包括至少一滚轮，用于传送沉积系统中的基材；及至少一外罩构件，其中该滚轮可从基材收回，且该外罩构件被调适成至少部分保护收回滚轮，以免受到沉积系统中出现的物质所污染。

因此，本实用新型的一必要观念是要至少部分保护收回的滚轮不受到沉积的影响。有利地是，收回和至少部分受保护的滚轮及/或至少一些重要部份收回滚轮受到保护，以免受到起源于制程气体涂层的污染，例如来自使用在沉积系统的前驱物。

此外，当变成不能收回(即是延伸)及传送另一基材时，此受保护的滚轮将不会负面影响另一基材。因此，本实用新型可避免从用于沉积系统的物质出现的任何负面影响，例如前驱物、及/或前驱物的反应产物、及影响滚轮，为了不降低随后系统进一步处理基材的成效位准。换句话说，一般会不预期地发现，避免负面影响沉积系统质量及/或成效的滚轮上任何不想要涂层可通过在沉积系统的制程步骤期间至少部分保护滚轮而加以达成。如此，制程气体不能够到达滚轮的表面并沉积在那里。优选地，外罩构件可保护该收回的滚轮。在甚至更佳具体实施例中，外罩构件可完全保护该收回的滚轮。

优选地，该沉积系统是调适成光电伏特装置制造，即是该沉积系统允许制造光电伏特装置，例如基于基材。

根据本实用新型，滚轮可收回以减少其随后处理步骤的影响。术语「收回」意谓从基材移开滚轮，即是移开滚轮支撑基材的工作位置，最好是从下面，例如在沉积系统中。一旦从基材收回，外罩构件可至少部分保护滚轮，以免受到例如在光电伏特装置制造中所使用物质的影响。一旦使用前驱物的意欲处理已发生，滚轮将不会受到保护(即是延伸)至回到其工作位置，通过降低基材支撑可将基材置放在滚轮及传送基材。最好地是，沉积系统包括复数个滚轮(例如此方式的情况)，该等滚轮的一部份配置在基材的一端，且该等滚轮的另一部份配置在基材的另一端。在另一具体实施例中，该基材只从其较低表面后端接触。因此，不需要基材载体或架。如果出现在意欲位置，基材支撑体(例如一热台)会从较低位提起，以从滚轮提起基材。

外罩构件可如从先前技术已知的任何适当外罩构件提供。最佳地是，外罩构件可如同一活板、一活板门、一外罩、一附件屏蔽、一阻壁、一护板、及/或含有开口的护板予以提供。在一甚至更佳具体实施例中，外罩构件包括一材料，该材料可防止物质用于光电伏特装置制造(例如铝或金属)，因此，外罩构件的材料提供足够和持续性保护，防止此前驱物(即是制程气体)使用例如在光电伏特装置制造。在另一具体实施例中，外罩构件调适成完全保护收回的滚轮。