[实用新型]一种LCD曝光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种曝光装置，尤其涉及一种LCD的曝光装置。

背景技术

曝光就是在涂好光刻胶的玻璃表面覆盖掩模版，通常紫外光是行选择性照射；使受光部分的光刻胶发生化学反应，改变这一部分胶在显影液中的溶解度。因而显影后，光刻胶膜显现出与掩模版上一致的图案。其中曝光时间和曝光光强选择是根据版的质量、光刻胶的性质、光源强弱和光源到纳米铟锡金属氧化物(ITO)玻璃的距离来衡量。

在现有技术中，平行光曝光的光学系统下，采用菲林作为掩模版，细线产品尤其是17um的细线产品显影后线条都为连笔或断笔，成品率几乎为零。其原因如下：由于菲林的透光率低于铬版的透光率，曝光机曝光时紫外光透过菲林时，由于菲林与涂好胶玻璃的接触面紧密程度不一致，所以涂好胶的玻璃上接受到的紫外光的程度也不一致，使受光部分的光刻胶发生化学反应的程度也不一致，显影后线条粗细不均，连笔及断笔多。这种菲林与涂好胶的玻璃的间隙便是菲林作为掩模版制作细线产品时成品率低的主要原因。

此外，现有的非接触式曝光中掩模版与玻璃上的感光胶层不接触，因而不会引起损伤和沾污掩模版，从而延长掩模版的使用质量和提高产品的优良率。但是非接触式曝光的掩模版一般都为铬版，此掩模版材料的价格昂贵，尤其是细线的晶粒-玻璃接合技术(COG)产品的铬版更是价格不菲。基于现在多品种、小批量产品多的市场行情下，为了样品和小批量而用铬版开模的数量逐渐增多，因此往往浪费了材料成本，进而增加了制造成本，降低了产品的市场竞争力。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种LCD曝光装置，它能制作17um以上线宽线距的细线样品及小批量产品，并且同时能降低材料成本。

本实用新型为了实现上述目的，所采用的技术方案为：一种LCD曝光装置，包括设置于其上的电源电路系统、光学系统和非接触式曝光平台，其特征在于：还包含有接触式曝光平台，接触式曝光平台设置于所述非接触式曝光平台上方。

优选的，所述接触式曝光平台设置于非接触式曝光平台上方左侧。

进一步的，所述接触式曝光平台与非接触式曝光平台之间设有用于接触式曝光平台左右推移的导轨。

进一步的，所述接触式曝光平台包括盖板、菲林、玻璃片及承放平台，所述支架设于所述承放平台的上方；所述菲林粘贴于上述盖板底面上；所述玻璃片放置于承放平台上表面，还包括真空孔和真空开关，所述真空孔设于承放平台的表面。

更进一步的，所述真空开关设于承放平台的侧边。

更进一步的，所述盖板枢接于承放平台的一侧。

采用上述技术方案后，本实用新型的有益效果为：由于在平行曝光装置的接触式曝光平台增设了真空孔及真空开关，从而通过该接触式曝光平台的真空吸附菲林与涂好光刻胶的玻璃片，使两者间的间隙为零，然后曝光作业，利用曝光装置自身的平行光源，解决17um线宽线距等细线产品用菲林作为掩模版生产的工艺难题，并且由于掩模版由铬版转为菲林替代，从而节约了材料成本。

附图说明

图1为本实用新型的侧面示意图；

图2为本实用新型的正面示意图；

图3为本实用新型的使用状态图；

图4为本实用新型的接触式曝光平台盖板打开时的示意图；

图5为本实用新型的接触式曝光平台盖板盖上后的示意图；

图6为本实用新型的接触式曝光平台盖板贴菲林的示意图；

图7为本实用新型的放置有玻璃片的接触式曝光平台的俯视图。

1、非接触式曝光平台

2、接触式曝光平台

21、盖板

22、菲林

23、玻璃片

24、承放平台

25、真空孔

26、真空开关

3、导轨

4、曝光机

具体实施方式

现结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步说明。

请参阅图1至图3，本实用新型的一种LCD曝光装置，包括电源电路系统、光学系统、非接触式曝光平台1及接触式曝光平台2，所述接触式曝光装置设于非接触式曝光平台1的上方左侧。所述接触式曝光平台2与非接触式曝光平台1之间设有导轨3，所述接触式曝光平台2可沿该导轨3从左侧推至曝光机4的曝光灯下曝光。