[实用新型]滚刷清洗装置有效
| 申请号: | 200920108120.8 | 申请日: | 2009-05-13 |
| 公开(公告)号: | CN201410484Y | 公开(公告)日: | 2010-02-24 |
| 发明(设计)人: | 吕俊君 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | B08B7/04 | 分类号: | B08B7/04;B08B1/02;B08B3/04;B05B13/04;B08B11/00 |
| 代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘 芳 |
| 地址: | 100176北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 清洗 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及液晶显示器制造工艺中的基板清洗技术,尤其涉及一种滚刷清洗装置。
背景技术
在薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid CrystalDisplay;以下简称:TFT-LCD)的制造过程中,玻璃基板是主要的部件,在玻璃基板形成彩膜基板和阵列基板,并对盒、切割后形成液晶面板的各个步骤中,均需要使用清洗机对基板进行多次清洗。清洗机中最重要的清洗装置是滚刷(Roll Brush)清洗装置。图1为现有滚刷清洗装置的结构示意图,通常包括由支架等固定在传送机构1上方的一个或多个滚刷2,以及悬设固定在传送机构1上方的多个喷淋装置(Shower)3,滚刷2和喷淋装置3均朝向传送机构1的传送表面设置。滚刷清洗装置工作时,喷淋装置3开启喷淋清洗液,由传送机构1的传送表面输送待清洗的基板4,滚刷2旋转,其刷毛接触基板4的表面,清洗液呈椭圆形的液流直接喷射在基板4的表面上,从而滚刷2对基板4进行滚刷清洗。
但是,在进行实践研究过程中,发明人发现现有滚刷清洗装置存在如下缺陷:滚刷的刷毛通常是一簇簇的集束状,呈螺旋型带状布设在滚刷的中心轴上,在喷淋装置高速液流的直接喷淋作用下,刷毛的集束状态更加明显,刷毛不能展开对基板进行清洗。集束状态刷毛的缺点在于,一方面由于各股刷毛之间存在间隙,导致清洗不均匀、不完全,另一方面由于集束状态刷毛的作用力巨大且集中,所以对基板表面有一定的损伤。尤其是在形成栅极膜层结构(Gate Pattern)之后的基板上,在集束状态的刷毛清洗下,容易划伤基板上的栅极膜层,造成斜线水波纹(Mura)不良现象,影响最终的显示效果。所以现有技术中往往不使用滚刷清洗形成栅极膜层后的基板,这大大降低了清洗机的清洗效果。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种滚刷清洗装置,以改善清洗效果。
为实现上述目的,本实用新型提供了一种滚刷清洗装置,包括朝向传送机构的传送表面设置的滚刷和喷淋装置,所述喷淋装置的喷头上设置有喷孔,还包括:
滑动轴,相对于所述滚刷悬设,能够相对于所述滚刷沿平行于所述滚刷轴线的方向移动,且所述喷淋装置固定在所述滑动轴上,用于朝向所述滚刷喷淋清洗液。
优选的是,所述喷淋装置的喷头上所设置的喷孔至少包括第一喷孔和第二喷孔,所述第一喷孔和第二喷孔的喷射方向均朝向所述滚刷设置,且所述第二喷孔的喷射方向与所述第一喷孔的喷射方向之间具有第一夹角。
由以上技术方案可知,本实用新型采用移动喷射液流,且直接朝向滚刷表面喷射液流的技术手段,有利于滚刷上的刷毛充分展开,且使刷毛更均匀,从而减小刷毛的作用力,能够改善清洗效果,减少甚至避免对待清洗基板表面的损伤。
附图说明
图1为现有滚刷清洗装置的结构示意图;
图2为本实用新型第一实施例所提供的滚刷清洗装置的结构示意图;
图3为本实用新型第一实施例所提供的滚刷清洗装置中喷淋装置的仰视结构示意图;
图4为图3中的A-A向剖面结构示意图;
图5为本实用新型第二实施例所提供的滚刷清洗装置的结构示意图;
图6为本实用新型第三实施例所提供的滚刷清洗装置的结构示意图;
图7为本实用新型第四实施例所提供的滚刷清洗装置的侧视结构示意图。
具体实施方式
本实用新型实施例提供了一种滚刷清洗装置,包括朝向传送机构的传送表面设置的滚刷和喷淋装置,喷淋装置的喷头上设置有喷孔,且还包括一滑动轴,相对于滚刷悬设,能够相对于滚刷沿平行于滚刷轴线的方向移动,且喷淋装置固定在滑动轴上,用于朝向滚刷喷淋清洗液。优选的是喷淋装置的喷头上所设置的喷孔至少包括第一喷孔和第二喷孔。第一喷孔和第二喷孔的喷射方向均朝向滚刷设置,且第二喷孔的喷射方向与第一喷孔的喷射方向之间具有第一夹角。
采用本实用新型的技术方案,结合了滑动喷淋清洗液、且直接朝向滚刷喷射的技术手段,能够使滚刷的刷毛均能够得到高速液流的滑动式喷淋而充分展开。进一步的,喷射的液流均朝向滚刷的刷毛且液流方向至少有两种的技术手段,在不同方向液流的喷射下使得集束状态的刷毛完全展开,从而能够增强清洗效果,且刷毛作用力的降低和均匀化可以减少甚至避免对基板表面结构的损坏,因此应用到形成栅极膜层后基板的清洗中可以减少斜线水波纹不良现象的产生。
实现本实用新型技术方案的形式有多种,下面通过具体实施例并结合附图对本实用新型做进一步的详细描述。
第一实施例
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