[实用新型]一种改进的卤水增浓装置无效

专利信息
申请号: 200920098626.5 申请日: 2009-09-04
公开(公告)号: CN201458755U 公开(公告)日: 2010-05-12
发明(设计)人: 吕刚景;杨德忠 申请(专利权)人: 天津长芦汉沽盐场有限责任公司
主分类号: C01D3/06 分类号: C01D3/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300480 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 改进 卤水 装置
【说明书】:

所属技术领域:

本实用新型涉及精制盐生产装置,具体地说是一种精制盐生产中的卤水增浓装置。

背景技术:

现有技术中,精制盐的生产方法是利用饱和卤水为原料,经过卤水增浓,进罐蒸发、洗盐、脱水、干燥等步骤进行精制盐产品的生产。其中卤水增浓是精制盐生产中的重要步骤,原料卤水增浓效果的好坏直接影响原料卤水中含氯化钠的多少,进而影响精制盐的产量,增加耗气量、耗电量及其他损耗。

目前,公知的生产精制盐用的原料卤水增浓有两种方式:化盐法和原卤法。化盐法是将工业盐用淡水溶化,增浓成饱和盐水后为作为原料使用;原卤法是将海水在滩田中自然蒸发,浓缩成微饱和卤水后作为原料使用,但由于海盐生产受天时影响较大,制盐场每年下半年卤水浓度普遍较低,因此需要使用工业盐对卤水进行增浓后再使用。但不论用那种方法制备精制盐生产用的原料卤水,其增浓的方法都是单管单溶式的。单管单溶式增浓装置的构造是,增浓池底部由若干平行分布的出水管单层平面连接于送水管上,出水管的底面排列若干个小孔,送水管的进口与泵连接注入淡水或微饱和卤水,增浓池内连续添加工业盐,增浓后的卤水溢流到缓冲池后泵入原料储罐作为生产精制盐用原料。此方法增浓需时较长,其原料卤水也很难达到饱和点,直接影响产量,增加煤、水、电的消耗,增加成本。此种方法不能充分溶化卤水中的一些细小盐粒,而使这些细小盐粒随饱和卤水带入原料储罐内,随着时间的延长,原料储罐内沉积的盐浆随之增加,给后期清罐带来很多不便。

发明内容:

为了解决现有卤水增浓装置不能有效将卤水增浓至饱和及不能充分融化细小盐粒的问题,本实用新型提供了一种改进的卤水增浓装置,使用该装置进行增浓,工业盐溶化速度快,可以使没有被溶化的细小盐粒彻底溶化,达到将卤水增浓至饱和的效果。

本实用新型的技术方案是:一种改进的卤水增浓装置,由送水主管和均布小孔的出水管构成,均布小孔的出水管一端连接于送水主管上,另一端为上下层面错位的U字型连接,上下层面出水管的错位距离为200-400mm;在与送水主管相对应的另一端设置有反冲管,反冲管深入液体后,以35-55度角上斜,管头封死,上斜管路旋转排列小孔。

根据以上技术方案,所述出水管上均布的小孔位置为出水管的下方。所述出水管另一端上下层面出水管的错位距离为300mm。所述出水管的平面位置距容器底部距离为350-650mm。所述反冲管的上斜管路以45度角上斜。

本实用新型的有益效果是:送水管的上下层面错位连接方式能够使卤水相互补充,形成沸腾状,工业盐溶化速度快,增浓效果好,效率高。反冲管路旋转排列孔径,使水中形成旋流,起到搅拌作用,能够使细小盐粒彻底溶化。使用此装置卤水能够很容易的达到饱和点,减少汽、水、电的消耗,降低生产成本。

附图说明:

图1是一种改进的卤水增浓装置的主视图;

图2是一种改进的卤水增浓装置的俯视图;

图3是一种改进的卤水增浓装置的左视图;

图4是一种改进的卤水增浓装置的效果示意图。

图中:1、送水主管,2、出水管,3、反冲管。

具体实施方式:

下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述:

一种改进的卤水增浓装置,由送水主管(1)、出水管(2)、反冲管(3)构成。在增浓池的一端设置有送水主管(1),送水主管(1)一端由泵连接储罐或卤库,另一端连接出水管(2);连接送水主管(1)上的出水管(2)一端为单一层面平行连接,出水管(2)另一端为上下层面错位的U字型连接,上下层面出水管(2)的错位距离为300mm,按此错位连接方式平行排列7组出水管(2)连接于送水主管(1)上,出水管(2)的平面位置距容器底部500mm,用于盛放加入待融的工业盐;出水管(2)下方排列两排Φ8mm的孔径,由泵注入的高压水流从出水管(2)下方的孔径喷出,由于出水管(2)为上下两层管路,可以使卤水相互补充,形成沸腾状的气流,使加入的工业盐溶化速度加快。在增浓池的另一端设置有反冲管(3),反冲管(3)来自上料泵出口接出的一个回路,使用阀门控制流量,反冲管(3)深入液体后,上斜45度角,管头封死。上斜管路旋转排列两排Φ8mm的孔径,这些孔径在高压水流的作用下形成旋流,起到搅拌作用,能够使液体中细小的颗粒融化更彻底,达到饱和增浓的效果。

以上所述,仅是本实用新型较佳实施例而已,并非对本实用新型的结构作任何形式上的限制。凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改,等同变化与修饰,均仍属于本实用新型的技术方案的范围内。

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