[实用新型]恒温水浴四头磁力搅拌器无效
申请号: | 200920097904.5 | 申请日: | 2009-07-23 |
公开(公告)号: | CN201519565U | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 王学武 | 申请(专利权)人: | 天津市欧诺仪器仪表有限公司 |
主分类号: | B01F13/08 | 分类号: | B01F13/08;B01L7/02 |
代理公司: | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人: | 江增俊 |
地址: | 300162 天津市东*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 恒温 水浴 磁力 搅拌器 | ||
技术领域
本实用新型属于试验仪器,特别是涉及一种恒温水浴四头磁力搅拌器。
背景技术
公告号CN2766954的实用新型《多转头磁力搅拌恒温水浴锅》公开了一种用于医学以及生物学皮肤渗透实验的恒温水浴锅。结构是:具有一个带循环水泵进、出水口的电加热平底锅体和多套并行置于锅体内的磁力搅拌单元,磁力搅拌单元由内设磁力搅拌转子的盛液烧杯、插装在烧杯中的试管以及设在烧杯下方的电控磁铁构成……。
上述多转头磁力搅拌恒温水浴锅磁力搅拌转子的磁力驱动机构是由电机、安装于电机主轴的磁铁支撑板和该支撑板对称两端的磁铁构成,存在体积大、有磨损、寿命短和抗振动能力较差的缺陷,同时还存在温度控制精度较低的实际问题。
发明内容
本实用新型是为了解决上述多转头磁力搅拌恒温水浴锅存在的所述技术问题,而提供一种恒温水浴四头磁力搅拌器。
本实用新型为实现上述目的采取以下技术方案:本恒温水浴四头磁力搅拌器由壳体、水浴箱及其电加热装置、循环水泵和整流电源所组成,特征是,带有电加热装置的水浴箱平面箱底下部设有四个磁力搅拌器,各磁力搅拌器分别由圆周对称分布的四个线圈构成,各线圈的轴线平行并垂直于水浴箱箱底,通以直流电流状态下各磁力搅拌器的一相邻两线圈的磁极极性相同并与另一相邻两线圈的磁极极性相反,其后各相对的线圈依次交替改变直流电流方向,各线圈的上表面分别设有对称的磁极片,相对应的磁极片纵轴线水平相交,其交点与水浴箱中的容器中心相对应,所述各磁力搅拌器分别设有由单片机和双H桥驱动电路构成的驱动模组组成的控制器,单片机各PWM输出端分别连接于驱动模组相应的双H桥驱动电路控制输入端,各双H桥驱动电路控制输出端分别对应连接于磁力搅拌器的四个线圈,所述单片机的I/O口连接有PWM方波宽度调整电位器,电位器设有位于壳体表面的搅拌速度调整旋钮;所述电加热装置设有温度程序控制器,其热电偶设置于水浴箱。
本实用新型还可以采取以下技术措施:
所述水浴箱设有上盖,水浴箱中各容器对应的上盖部位设有开孔及其扣盖。
本实用新型的有益效果和优点是:本恒温水浴四头磁力搅拌器通过各线圈的磁极极性规律变化产生旋转磁场,具有体积小、无磨损、无噪声、寿命长、抗振动能力较强的特点。恒温水浴设置温度程序控制器,能够实现温度的模糊PID控制,不仅克服了一般电加热装置满负荷启动和运转的缺陷,使无功能耗明显降低,同时也使温控精度达到±0.5℃,节省电能的效果也比较显著。
附图说明
附图1是本实用新型实施例结构局部剖面示意图。
附图2是图1磁力搅拌器分布及结构示意图。
附图3是磁力搅拌器电原理框图。
附图4是旋转磁场形成示意图,其中图“a”、“b”、“c”、“d”分别表示线圈A、B、C、D的磁极极性在PWM作用下的依次交替改变。
附图5是图1实施例温度控制电原理图。
图中标号:1壳体,2上盖,3容器支架,4扣盖,5容器,6水浴箱,7线圈,8支撑板,9电路板,10搅拌速度调整旋钮,11温度程序控制器,12导磁柱,13磁极片。
具体实施方式
下面结合实施例及其附图进一步说明本实用新型。
如图1所示实施例,本恒温水浴四头磁力搅拌器的壳体1支撑有水浴箱6,水浴箱中设有电加热装置和利于水温均衡的循环水泵,电加热装置和循环水泵的结构与现有同类设备相同故省略图示。水浴箱6设有上盖2,水浴箱中由容器支架3支撑的各容器5所对应的上盖部位设有开孔及其扣盖4。壳体1中还设有整流电源。
如图1、2所示,水浴箱1平面箱底下部的支撑板8设有四个磁力搅拌器,各磁力搅拌器分别由圆周对称分布的四个线圈7构成,各线圈7分别由导磁柱12固定,各线圈的轴线平行并垂直于水浴箱箱底,各线圈的上表面分别设有对称的磁极片13,相对应的磁极片纵轴线水平相交,其交点与水浴箱中的容器5中心相对应。
如图1、3所示,壳体中的电路板9设有分别对应各磁力搅拌器的由单片机和双H桥驱动电路构成的驱动模组组成的控制器。就其中一个磁力搅拌器而言,其控制器的单片机各PWM输出端分别连接于驱动模组相应的双H桥驱动电路控制输入端,各双H桥驱动电路控制输出端分别对应连接于该磁力搅拌器的四个线圈。单片机的I/O口连接有PWM方波宽度调整电位器,电位器设有如图1所示的位于壳体表面的搅拌速度调整旋钮10。
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