[实用新型]一种高效冲击钻头无效
| 申请号: | 200920082236.9 | 申请日: | 2009-07-02 |
| 公开(公告)号: | CN201455357U | 公开(公告)日: | 2010-05-12 |
| 发明(设计)人: | 钟毅 | 申请(专利权)人: | 钟毅 |
| 主分类号: | B23B51/00 | 分类号: | B23B51/00 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 吴彦峰;姚温明 |
| 地址: | 643030 四川省自贡*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 高效 冲击 钻头 | ||
技术领域
本实用新型涉及孔加工刀具,尤其涉及一种高效冲击钻头。
背景技术
目前,广泛使用的冲击钻头中心有较宽的横刃,如图1所示传统冲击钻头的切削头中心开有对称槽,槽中嵌有刀片1,刀片1顶部设有两后刀面2和两前刀面3,两后刀面2和两前刀面3都以钻头轴线为中心对称布置;两主切削刃4在横截面上的投影为平行于刀片纵向对称平面X的两直线,两主切削刃4相互错开,其间有较宽的横刃5。这种钻头,在工作时由于有较宽横刃定心精度差,钻心易跑偏,而且钻心处轴向阻力很大,操作者的劳动强度大,特别是当钻头直径越大横刃越宽更不易定心且阻力大,还要先用小钻头引孔预钻;而且前刀面与刀片纵向对称平面的夹角较大为45度左右,后刀面与刀片纵向对称平面的夹角为40~45度,这就使得前、后刀面形成的楔角较大,前角极小,切削不够轻快,排屑不易;同时,两主切削刃没通过钻心,不呈轴对称的发散形,钻削时易与加工物体产生挤刮,主切削刃易磨损,严重影响钻头寿命。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种高效冲击钻头,它定心精度高,钻削时不会跑偏,钻心处轴向阻力小,钻削轻快。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案如下:一种高效冲击钻头,包括在中心对称槽中固定有刀片的切削头,所述刀片上轴对称地设有后刀面和前刀面,所述后刀面和前刀面是平面,其特征在于:所述刀片上的两主切削刃在横截面上的投影为通过钻头轴线的直线,横刃长度为0或0.4mm以下,该横刃位于两所述主切削刃所在的平面上。
作为进一步改进,所述前刀面与包含两所述主切削刃的钻头轴对称平面的夹角为20~30度。将此夹角减小后楔角变小,可增大前角,刃口锋利,切削更省力,排屑顺畅。
为减轻主切削刃与被加工物体的挤刮,减少主切削刃的磨损,作为进一步改进,所述两主切削刃在横截面上的投影与刀片纵向对称平面的夹角为5~15度。
本实用新型将两主切削刃对接,消除了横刃,原横刃缩减成一个钻尖;当钻头直径较大时,才需要留极短的横刃,这样就大大减小了轴向切削阻力,钻削轻快,减轻了操作者的劳动负荷,而且定心精度高,钻削时不会跑偏。
由于采用了上述技术方案,本实用新型的有益效果是:钻头定心精度高、钻孔时不会跑偏;切削阻力小、切削省力,能降低操作者的劳动负荷;排屑轻快、顺畅,钻头使用寿命长。
附图说明
图1为传统冲击钻头的俯视示意图。
图2为本实用新型实施例1切削头部分的结构示意图。
图3为图2的左视图。
图4为图2的俯视图。
图5为图3的A-A剖视图。
图6为本实用新型实施例2的俯视示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明:
实施例1:如图2至图4所示,一种高效冲击钻头,包括在中心对称槽中固定有刀片1的切削头,切削头处的直径为12mm。刀片上轴对称地设有后刀面2和前刀面3,后刀面2和前刀面3是平面,两后刀面2和两前刀面3顶端相交形成两主切削刃4,两主切削刃4在横截面上的投影为通过钻头轴线的直线,该直线与刀片纵向对称平面X的夹角为11度左右。两主切削刃4相交在钻头轴线上,钻心处无横刃,即横刃长度为0,大大减小了轴向切削阻力,钻削轻快,减轻了操作者的劳动负荷,而且定心精度高,钻削时不会跑偏。如图4、图5所示,前刀面3与包含两主切削刃4的钻头轴对称平面Y的夹角为22度左右,楔角变小、前角增大,刃口锋利,切削更省力,排屑顺畅。
实施例2:一种高效冲击钻头,包括在中心对称槽中固定有刀片1的切削头,切削头处的直径为20mm。刀片上轴对称地设有后刀面2和前刀面3,后刀面2和前刀面3是平面,两后刀面2和两前刀面3顶端相交形成两主切削刃4,两主切削刃4在横截面上的投影为通过钻头轴线的直线,该直线与刀片纵向对称平面X的夹角为13度左右。如图6所示,两主切削刃4之间是0.2mm的极短横刃5,该横刃5位于两主切削刃4所在的平面Y上,这样既可获得良好的定心精度,钻心又有较高的强度。如图5所示,前刀面3与包含两主切削刃4的钻头轴对称平面Y的夹角为25度左右。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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