[实用新型]涂胶显影机清洁装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种清洁装置，尤其涉及一种去除在涂胶显影机上残留杂质的装置。

背景技术

晶圆在进行光刻形成电路之前需要涂胶并显影，涂胶使用的设备为涂胶显影机，涂胶最常用的方法就是旋转涂胶，其方法为用真空吸盘将晶圆固定，然后将实现确定好的胶量滴在晶圆表面上，旋转吸盘，使得滴在吸盘上的胶铺开在整个晶圆上。旋转涂胶后，晶圆进入下一工艺即烘烤，去除胶中的大部分溶剂并使胶的曝光特性固定。

由于涂胶所用的胶具有挥发性，因此在涂胶过程中，会有部分涂胶的溶剂由于环境具有一定温度而挥发出来，再加上由于在旋转的过程中部分涂胶的粒子被飞溅出去，在紧接的烘烤过程使得挥发和飞溅出来的涂胶固化形成颗粒状杂质，引起后续的刻蚀和沉积工艺中的缺陷，这种颗粒状杂质造成的缺陷通常称为球状缺陷。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是：提供一种涂胶显影机清洁装置，以去除固化的颗粒状杂质，解决球状缺陷。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种涂胶显影机清洁装置，包括顶层基架，滑板以及底部基板，所述顶层基架固定在显影机的机台上，所述顶层基架上设有若干通孔，两侧分别设有折弯部；

所述底部基板的表面上分布有若干风扇，在所述风扇位置处设有相应的开口，所述底部基板与所述折弯部连接；

所述滑板位于所述底部基板和顶层基架形成的收容空间内，所述滑板上设有开孔。

进一步的，所述通孔与所述开孔位置相对应。

进一步的，固定在所述底部基板上的风扇与所述通孔的位置相对应。

通过在涂胶显影机上增加了涂胶显影机杂质清洁装置，启动涂胶显影机杂质清洁装置上的风扇旋转，将涂胶杂质抽出至外部环境，避免了污染，从而使得后续的刻蚀和沉积工艺中造成的球状缺陷得以克服，提高了产品良率，节省成本。

附图说明

以下结合附图和具体实施例对本实用新型的涂胶显影机清洁装置作进一步详细的描述。

图1为本实用新型实施例中的涂胶显影机清洁装置结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图进一步说明具体的功能和实施方式：

请参阅图1，图1为本实用新型实施例中的涂胶显影机清洁装置结构示意图。该涂胶显影机清洁装置包括顶层基架1，滑板2以及底部基板3三个部分，所述顶层基架1固定在涂胶显影机的机台上(未标示)，所述顶层基架上设有若干通孔10，从而可以连通机台内涂胶的空间，顶层基架1的两侧分别设有折弯部11，底部基板3通过该折弯部11连接，使得底部基板3固定在顶层基架1上。

所述滑板2位于所述底部基板3和顶层基架1形成的收容空间5内，所述滑板2上设有开孔20，设置在所述顶层基架1上的通孔10与所述开孔20位置相对应，该滑板2可以在图1中所示的收容空间5内左右移动，因此可以根据涂胶杂质的多少而调整通孔10以及开孔20形成的通路口径大小。

所述底部基板3的表面上分布有若干风扇4，在所述风扇4位置处设有相应的开口30，所述风扇4与所述顶层基架1上的通孔10的位置相对应。本实施例中，所述风扇4选择的直流电压为24伏，具体数量可以根据所述通孔10以及开孔20的数量相一致。

具体实施过程如下：当涂胶显影机上的晶圆(未标示)开始旋转进行，由于旋转以及环境具有一定温度而导致涂胶所用的胶挥发，使得飞溅和挥发出来的涂胶杂质弥漫在涂胶显影机的空间内部(未标示)，启动本实施例中的涂胶显影机杂质清洁装置，风扇40旋转，由于风扇40与开口30、通孔10以及开孔20一一对应，因此可以将涂胶杂质依次通过通孔10、开孔20以及开口30抽出至外部环境，由此带来了如下的好处：

一：能够在涂胶的过程中及时将涂胶杂质排除至外部环境，避免了污染，从而使得后续的刻蚀和沉积工艺中造成的球状缺陷得以克服，提高了产品良率，节省成本。

二：由于能够及时将涂胶杂质排除，因此之前为了避免涂胶杂质飞溅而限制涂胶的旋转速度得以解除，安装该涂胶显影机杂质清洁装置后，可以提高旋转速度的范围，从之前最高速度为4000RPM提高到了5000RPM，从而即可提高涂胶速度和效率，增加产率，也可以适用于不同晶圆类型的涂胶速度要求，可以广泛应用在不同的产品上。

三：由于在涂胶的过程中就能够及时将涂胶杂质排除，涂胶显影机的内部得以保持清洁，因此涂胶显影机的保养时间可以大大延长，从原来的每周清洁一次可以改为每个月清洁一次，降低了人力成本，也延长了涂胶显影机的使用寿命。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。