[实用新型]多室连续真空镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备，特别是一种多室连续真空镀膜的生产装置。

技术背景

溅射真空镀膜技术的迅速发展，令核心的真空室，已从单室转向两室，继而向多室发展，生产装置也从单室间歇式，朝向多室连续生产线发展，生产效率不断得到提高，大大节省生产准备和辅助时间，并提高真空度及其稳定性，提升镀膜质量。当镀膜室抽至一定真空度时，往镀膜室内充入工作气体(常用氩气)，调节溅射电源电流，使镀膜室内气体电离状况稳定，由电离出的正离子轰击靶材表面，溅射出靶材原子到基片上，便形成薄膜。申请号200810143143.2“大面积反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线”，所设计的一条庞大的生产线，包括有依次相邻并与真空系统连通的各真空室，如前预抽室，前过渡室，前传送室，连续5台介质镀膜室，2台隔离传送室，隔离室，导电膜镀膜室，后传送室，后过渡室，以及处于两头的进片区和出片区，还有所设置的磁导向传送装置，工件回行架等组成的生产环路。无庸置疑，这样的生产线的设备相当庞杂，投资巨大，生产成本高。中国专利申请00122078.0号“多层膜在线连续镀制设备的工艺布置”(公开号CN 1338531 A)，公开了一种连续镀膜装置的布置，该生产线布置依次为：独立阀门-装片真空室-独立阀门-过渡真空室-独立阀门-转换真空室-2台串联的镀膜真空室-缓冲真空室-2台串联的镀膜真空室-转换真空室-独立阀门-过渡真空室-独立阀门-卸片真空室-独立阀门。各真空室配有加热系统和温控系统，核心的设备有由缓冲室隔离开的前、后各两台镀膜真空室，该缓冲室是一个高真空隔离气阱，各台独立阀门分别设在各真空室之间。可以看出，这比起上面所引述的生产线，在设备布置上是减少了，并可达到在线连续镀膜制两层以上薄膜的工艺效果。

上述现有真空镀膜生产线装置，所投入运行的真空室，以及配套的真空设备，相当庞大复杂，设备投资大，生产成本高。以相对设备较少的申请号00122078.0而言，虽然设备减少了，但在减少设备的同时，还要提高生产效率。这取决于工艺布置是否配置得当，搭档合理，以充分发挥设备的利用效率。在镀膜工件推进的方向上，玻璃在导行架上是从进片区进入，经过镀膜区，再从出片区出来。在推进过程中，各真空室的真空度会是变化着的，或抽、或停，或初级抽、或精抽(即深度排气)，真空发生过程所需时间和工件停留时间也就有所区别了。如在各室的停留时间差别过大，就会影响整体效率。真空室多的话，总的停留时间就长，产生真空所需的能耗亦会增加。如上述的工艺布置，其中基片小车处于装片室和卸片室两头时，是采用间歇式动作，只在其余的镀膜室里是连续运作的，这样使得在生产线两头的装、卸片室里，真空负载量很大，故采用了串联3台真空泵之多，排气到0.27×10^-3Pa，才开始镀膜。该两头的片室就成了“瓶颈”效应。其中镀膜室的数量取决于镀膜层数。故此，在保证镀膜质量的同时，即不但要确保镀膜室真空度够高且稳定，排气过程平稳、不波动，还需尽量减少工件在各室的停留时间、和获得真空的时间，以便提高效率，节约能源；为此，抓住关键，合理地科学配置各个真空室，就显得十分重要了。

发明内容

本实用新型的目的在于避免上述现有技术的不足之处，而提供一种镀膜质量好，设备较少，运行操作方便；生产效率较高，特别是可缩减进、出片室排气时间的多室连续真空镀膜装置。

本实用新型的目的可通过如下的措施来达到：

一种多室连续真空镀膜装置，包括通过两者之间的阀门相互串联，且旁接有真空发生装置的多个真空室、所连接成的一种连续真空镀膜的装置，其特征在于，所述的多个真空室和多个串联的阀门，包括有依次串联的以下设备：

阀门I-进片真空室-阀门II-前缓冲真空室-阀门III-前过渡真空室-镀膜真空室-后过渡真空室-阀门IV-后缓冲真空室-阀门V-出片真空室-阀门VI；在镀膜真空室里，装设有1条或若干条作为溅射镀层材料的靶条；

所述的真空发生装置，包括分别连接在各个真空室之上的、初级抽真空系统和深度排气系统；当中有连接在进片真空室的前初级抽真空系统，连接在出片真空室的后初级抽真空系统；连接在前缓冲真空室的前缓冲深度排气系统，连接在前过渡真空室的前深度排气系统，连接在镀膜真空室的镀膜深度排气系统，连接在后过渡真空室的后深度排气系统，以及连接在后缓冲真空室上的后缓冲深度排气系统，这些系统通过真空阀门，真空泵以及相应的真空管道，而连接成真空发生系统的。