[实用新型]一种多功能镀膜设备无效
| 申请号： | 200920056047.4 | 申请日： | 2009-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN201400714Y | 公开（公告）日： | 2010-02-10 |
| 发明（设计）人： | 马新欣;牛仕超;王双喜;余晋彬;黄国权 | 申请（专利权）人： | 佛山市华南精密制造技术研究开发院;佛山市德科机器人技术与装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人： | 詹仲国 |
| 地址： | 528000广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 多功能 镀膜 设备 | ||
1、一种多功能镀膜设备，包括工件架、电弧离子镀靶源、磁控溅射靶源、加热器、高压系统、真空室以及真空系统，其特征在于：所述多功能镀膜设备还设有射频天线，工件架连接有脉冲高压系统。
2、根据权利要求1所述的一种多功能镀膜设备，其特征在于：真空室内引入的射频天线平行于磁控溅射靶面，设置在磁控溅射靶表面附件，磁控溅射靶与工件架间。
3、根据权利要求1所述的一种多功能镀膜设备，其特征在于：工件架置于真空室中央，并与真空室绝缘，脉冲高压系统由真空室底部与工件架连通。
4、根据权利要求1所述的一种多功能镀膜设备，其特征在于：所述电弧离子镀靶源包括两组以上，每组包括两个以上电弧离子镀靶，电弧离子镀靶分布在真空室侧壁上的不同水平面。
5、根据权利要求4所述的一种多功能镀膜设备，其特征在于：所述电弧离子镀靶源为平面圆形，共有八个，每组两个，对称分布于真空室侧壁的四个方向，各靶分布在不同水平面上，靶面设置可动挡板。
6、根据权利要求1所述的一种多功能镀膜设备，其特征在于：所述磁控溅射靶为矩形平面靶，对称分布在真空室侧壁的电弧离子镀靶源之间，靶面设置可动挡板。
7、根据权利要求1所述的一种多功能镀膜设备，其特征在于：所述工件架连接有偏压系统，偏压0～2000V可调；脉冲高压系统，高压10～60kV可调。
8、根据权利要求1所述的一种多功能镀膜设备，其特征在于：所述真空系统为二级真空组，由机械泵、罗茨泵与分子泵组成。
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