[实用新型]一种石材抛磨机有效
| 申请号: | 200920050290.5 | 申请日: | 2009-01-16 |
| 公开(公告)号: | CN201346729Y | 公开(公告)日: | 2009-11-18 |
| 发明(设计)人: | 曾锡坤 | 申请(专利权)人: | 曾锡坤 |
| 主分类号: | B24B7/22 | 分类号: | B24B7/22 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 527300广东省云*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 石材 抛磨机 | ||
技术领域
本实用新型涉及石材加工机械领域,尤其涉及一种对石材表面进行抛磨光的石材抛磨机。
背景技术
现有石材抛磨机,一般采用一个电机带动一个磨头运转,在石材磨抛过程中,经过粗磨之后需要暂停机器更换上精磨头才能继续加工,这样工序繁琐,工人劳动强度大,生产效率低。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种在磨抛过程中经粗磨之后不需要暂停机器人工更换精磨头也能继续加工,具有使用更方便,效率更高的石材抛磨机。
本实用新型的目的通过以下技术方案来实现。
一种石材抛磨机,包括机架、工作平台、磨头总成及相应的控制系统,磨头总成包括抛光磨头、升降机构、驱动抛光磨头的带轮及电机,其特征在于:所述机架的两端设有端梁,在端梁上安装有导轨,在导轨上安装有沿导轨往复移动的主梁,在主梁的两侧通过一主轴四方箱装置对称分布抛光磨头,主轴四方箱装置带动主梁两侧的抛光磨头在主梁上往复移动,主梁的两侧的抛光磨头通过一套发出指令使一侧的抛光磨头高离工作面,另一侧的抛光磨头依次启动下降接触工作面进行打磨。
所述与主梁对称的每两个抛光磨头分别由一台电机带动。
所述主梁一侧的抛光磨头为从左到右打磨精度依次提高的抛光磨头构成,另一侧的抛光磨头为从左到右打磨精度依次降低的抛光磨头构成,且其中一侧的抛光磨头的打磨精度均高于另一侧的抛光磨头的打磨精度。
本实用新型与现有技术相比具有以下优点:
本实用新型由于在主梁的两侧通过一主轴四方箱装置对称分布抛光磨头,主轴四方箱装置带动主梁两侧的抛光磨头在主梁上往复移动,主梁的两侧的抛光磨头通过一套发出指令使一侧的抛光磨头高离工作面,另一侧的抛光磨头依次启动下降接触工作面,并依次序接触工作面打磨,即为双排抛光磨头的抛磨机,在程序控制系统的控制下,便可实现主梁的一侧的抛光磨头高离工作面空转,另一侧的抛光磨头降落接触工作面,并依次序接触工作面打磨,粗磨的一排工作完成后,紧接着由精磨一排进行工作。因此在石材磨抛过程中,经过粗磨之后不需要暂停机器人工更换精磨磨头,故减少了工序,降低工人劳动强度,生产效率高。
附图说明
图1为本实用新型石材抛磨机实施例的结构示意图;
图2是本实用新型石材抛磨机抛光磨头位置分布示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型石材抛磨机作进一步详细描述。
如图1-2所示,本实用新型石材抛磨机,包括机架1、工作平台、磨头总成及相应的控制系统,磨头总成包括抛光磨头3、升降机构、驱动抛光磨头的带轮4及电机5,在机架1的两端设有端梁6,在端梁6上安装有导轨7,在导轨7上安装有沿导轨7往复移动的主梁8,在主梁8的两侧通过一主轴四方箱装置2对称分布抛光磨头3,主轴四方箱装置2带动主梁两侧的抛光磨头3在主梁8上往复移动,主梁8的两侧的抛光磨头3通过一套程序控制系统控制运转,程序控制系统发出指令使一侧的抛光磨头高离工作面空转,另一侧的抛光磨头降落接触工作面,并依次序接触工作面打磨。其中每两个与主梁对称的抛光磨头分别由一台电机带动,主梁一侧的抛光磨头为从左到右打磨精度依次提高的抛光磨头构成,另一侧的抛光磨头为从左到右打磨精度依次降低的抛光磨头构成。
本实施例以主梁的两侧各设有四个抛光磨头为例进行说明,即抛光磨头31、32、33、34组成一排,抛光磨头35、36、37、38组成另一排分置于主梁的两侧,其中抛光磨头31与38、抛光磨头32与37、抛光磨头33与36、抛光磨头34与35对称分布,抛光磨头31与38、抛光磨头32与37、抛光磨头33与36、抛光磨头34与35四对抛光磨头分别由一台电机带动,抛光磨头由31-38每个打磨程度不同,31为最粗磨,38为最精磨,32→37的打磨精度依次提高。
以主梁8在导轨7上的前后往返运动为主,以主轴四方箱装置2在主梁8上的左右往返滑动为辅,形成振幅级向前的运动轨迹。
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