[实用新型]药用局部涂膜胶塞与其掩膜装置之连接结构无效

专利信息
申请号: 200920046666.5 申请日: 2009-06-18
公开(公告)号: CN201445647U 公开(公告)日: 2010-05-05
发明(设计)人: 华一敏;华国平;龚晓青 申请(专利权)人: 江苏华兰药用新材料股份有限公司
主分类号: A61J1/14 分类号: A61J1/14
代理公司: 江阴市同盛专利事务所 32210 代理人: 唐纫兰
地址: 214443 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 药用 局部 涂膜胶塞 与其 装置 连接 结构
【说明书】:

(一)技术领域

本实用新型涉及一种药用局部涂膜胶塞与其掩膜装置之连接结构。用于对胶塞不需要涂敷的部位进行遮蔽。

(二)背景技术

通常药品胶塞都是采用橡胶来制作。由于药品品种多,成份复杂,针对各类药品分别解决其与橡胶的相容性是勉为其难的,目前生产的胶塞与药品的相容性差,主要表现在部分合成化学制剂和中药制剂对温度和湿度较敏感,容易与外来杂质反应而失效。为保证胶塞不与瓶内药品发生反应而污染药品,通常的做法是在胶塞与药品的接触部件涂上一层聚对二甲苯薄膜,制作成涂膜胶塞。生产涂膜胶塞时,为保证其密封性能而不需涂敷在胶塞冠面与瓶口接触部位,在不需要涂敷的部位用一定的基材来遮蔽,这统称掩膜。在掩膜以外的涂膜面就称为局部涂膜。胶塞表面掩膜现有的方法是用压敏胶带将不需要涂膜的部位粘贴起来。其不足之处在于:

1、因掩膜的过程中,压敏胶带有壳起现象而使该部位起不到遮蔽的效果;

2、掩膜用的压敏胶带只能一次性使用,造成很大的浪费及环境污染;

3、将压敏胶带从胶塞表面取下后,胶带表面的粘剂会残留在胶塞表面,使胶塞清洗困难,对封装药品的安全有效性造成极大地隐患。

(三)发明内容

本实用新型的目的在于克服上述不足,提供一种遮蔽效果好、成本低、无环境污染、对封装药品的安全有效性好的药用局部涂膜胶塞与其掩膜装置之连接结构。

本实用新型的目的是这样实现的:一种药用局部涂膜胶塞与其掩膜装置之连接结构,所述结构包括胶塞和其掩膜装置,所述掩膜装置呈一环状体,该环状体中心开设有一台阶形通孔,该台阶形通孔的大直径孔孔壁与所述胶塞塞冠的侧表面相配合接触,该台阶形通孔的小直径孔孔壁与所述胶塞塞颈的侧表面相配合接触,该台阶形通孔的台阶面上沿所述小直径孔孔壁向大直孔方向延伸设置有一凸缘,该凸缘与所述胶塞塞颈根部相配合接触。

本实用新型的有益效果是:

1、采用掩膜装置对胶塞的不需要涂膜的部位进行遮挡,不存在现有技术中压敏胶带壳起现象而使该部位起不到遮蔽的效果,遮蔽效果好;

2、掩膜装置利用物理压力夹持胶塞,可以反复使用,成本低;

3、采用掩膜装置对胶塞的不需要涂膜的部位进行遮挡,不会在胶塞表面残留任何化学粘接剂,使胶塞清洗容易,无环境污染;

4、涂膜胶塞上没有任何润滑剂,不会向液体药物释放任何如硅油类的润滑材料;

5、采用掩膜装置对胶塞的不需要涂膜的部位进行遮挡,可以减少其表面不溶性微粒,保护药物稳定性,满足胶塞与药品相容性要求,具有非常可靠的生物安全性和生物稳定性,有利于保证封装药品的质量和安全.

(四)附图说明

图1为本实用新型药用局部涂膜胶塞与其掩膜装置之连接结构的应用实施例图。

图中:

胶塞1、掩膜装置2、膜塞需涂膜部位3、凸缘4。

(五)具体实施方式

参见图1,将一种用于制造涂膜胶塞的掩膜装置2进行遮挡,压紧覆盖在胶塞1塞冠侧表面和塞冠下端面与瓶口接触部位,所述遮挡装置2覆盖下的区域不形成膜层。所述遮挡装置2为硬质材料制成,所述硬质材料为金属或者塑料。该掩膜装置呈一环状体2,该环状体2中心开设有一台阶形通孔,该台阶形通孔的大直径孔孔壁用于与所述胶塞1塞冠的侧表面相配合接触,该台阶形通孔的小直径孔孔壁用于与所述胶塞塞颈的侧表面相配合接触,该台阶形通孔的台阶面上沿所述小直径孔孔壁向大直孔方向延伸设置有一凸缘4,该凸缘4与所述胶塞1塞颈根部相配合接触。在涂敷时,遮挡装置2台阶形通孔的大直径孔与胶塞塞冠的侧表面配合紧密,阻止在涂敷过程中胶塞1与遮挡装置2分离;凸缘4与胶塞1塞颈根部紧密接触,封闭遮蔽胶塞塞冠侧表面和下端面与瓶口接触部位,以达到在此部位不涂敷的效果。采用真空气相沉积涂敷技术将聚对二甲苯涂敷在胶塞未被掩膜装置遮蔽部位,从而达到在涂敷时,膜层对需要涂敷的部位形成一种致密无针孔的、均匀的薄膜,全面覆盖在需涂敷的胶塞表面。涂膜厚度控制在0.3~10um之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏华兰药用新材料股份有限公司,未经江苏华兰药用新材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920046666.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top