[实用新型]一种双层四模硫化机无效

专利信息
申请号: 200920031257.8 申请日: 2009-08-10
公开(公告)号: CN201552697U 公开(公告)日: 2010-08-18
发明(设计)人: 丁振堂;刘云启;张成军;殷晓;杨卫华;封子华;孙友萍 申请(专利权)人: 青岛双星橡塑机械有限公司
主分类号: B29C35/02 分类号: B29C35/02;B29L30/00
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司 37205 代理人: 王连君
地址: 266400 *** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 双层 硫化
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种硫化机,尤其是橡机领域的一种双层四模硫化机。

背景技术

现有技术中,轮胎的硫化多采用双模或单模进行硫化。图1示出现有技术的一种双模硫化机的装置结构图。如图1所示,该双模硫化机包括机架1、可上升并翻转的横梁2、两个包括上模3和下模4的硫化室、两个包括中心机构5和液压装置6的举胎机构以及轮胎供给装置。其硫化室的下模固定不动,两个硫化室的上模连接并固定在横梁2上。两个硫化室的开模通过横梁的上升和翻转以带开两个硫化室的上模。

相对来说,现有技术的硫化机的整个工作过程效率仍较低下。同时,硫化机的金属模多采用下模不动,上模翻转或平转打开的方式开模。此种开模方式在开模瞬间,机架承受较大冲击力。这就需要保证机架有足够的强度,因此,成本较高,外形庞大并笨重,占地面积也较大。

还有连续硫化设备,通过轮胎供给装置,可同时对多只轮胎进行硫化。但这也仅是辅助较多的外围设备,提高轮胎供给的连续性,实质上仍是单模或双模硫化机。由于单只轮胎的硫化时间大致相同并确定,因此即使改善轮胎供给的连续,但仍无法缩短单只轮胎的硫化时间。所以硫化机的硫化效率仍然受到限制,无法实现较大的提高。

此外,硫化室的合模仅靠模的自重压模,在受热环境下密闭效果有限。即使加大横梁或上模的重量,仍不能彻底解决密闭效果差的问题。

因此,需要一种新的硫化轮胎的方法及硫化机以更好的解决前述存在的问题。

发明内容

有鉴于此,本实用新型致力于更好的解决上述问题,提出了一种双层四模硫化机。

根据本实用新型的技术方案,提出了一种双层四模硫化机。通过设置四个硫化室,并对四个硫化室分两层进行设置,可以同时对四个硫化室中的轮胎进行硫化。这在硫化时间确定的限制下,大大减小了单只轮胎硫化的平均时间。

根据本实用新型的技术方案,提供了一种双层四模硫化机。该硫化机包括四个分两层设置的硫化室,所述硫化室均包括上模和下模,

其中,上层两个硫化室的上模并行设置并固定不动;

上层两个硫化室的下模和下层两个硫化室的上模均并行设置并联结为一体以同步移动;

下层两个硫化室的下模并行设置并同步移动。

优选地,所述上层两个硫化室的上模并行连接并固定在固定的横梁上;和/或

所述上层两个硫化室的下模和下层两个硫化室的上模均连接并固定在第一活动平台上;和/或

所述下层两个硫化室的下模均连接并固定在第二活动平台上。

优选地,所述第一活动平台和/或第二活动平台设置有两套举胎装置;或者,进一步地,所述两套举胎装置是通过一个液压升降装置连接并驱动两个中心机构完成举胎动作的。

本实用新型的有益效果是:本实用新型可同时硫化四只轮胎,硫化轮胎效率高;硫化室的合模不依赖上模或横梁的重量,密闭压力可选择和调节;不适用翻转或平转进行开模或合模,直接采用竖直平移,减小了对机架的冲击,整机性能稳定,并可适度降低机架的强度以降低成本。

附图说明

下面将参照附图对本实用新型的具体实施方案进行更详细的说明,其中:

图1是现有技术的一种双模硫化机的装置结构;

图2是本实用新型的装置正视纵截面图;以及

图3是本实用新型的装置左视纵截面图;

其图2和图3中,1-机架,2-横梁,3-第一活动平台,4-第二活动平台,5-第一硫化室上模,6-第二硫化室上模,7-第一硫化室下模,8-第二硫化室下模,9-第一举胎装置中心机构,10-第二举胎装置中心机构,11-第一液压装置,12-驱动连接件,13-第三硫化室上模,14-第四硫化室上模,15-第三硫化室下模,16-第四硫化室下模,17-第三举胎装置中心机构,18-第四举胎装置中心机构,19-第二液压装置,20-驱动连接件,21-移动导轨或导槽,22-移动连接件,23-第一合模液压缸,24-第二合模液压装置,25-第一导向拉伸装置,26-第二导向拉伸装置,27-移动导向装置。

具体实施方式

为了克服现有技术中存在的上述诸多问题,本实用新型提供了一种双层四模硫化机。接下来具体说明该双层四模硫化机。

图2示出本实用新型的装置正视纵截面图,图3示出图2方式的装置左视纵截面图。如图2和图3所示,该装置包括四个分两层设置的硫化室,其中,第一硫化室和第二硫化室处在上层,第三硫化室和第四硫化室处在下层。

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