[实用新型]一种用于半导体晶片加工的化蜡装置无效

专利信息
申请号: 200920029733.2 申请日: 2009-07-15
公开(公告)号: CN201435382Y 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: 满忠斌;娄娟 申请(专利权)人: 山东华光光电子有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;B28D5/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 250101山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 半导体 晶片 加工 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种化蜡装置,特别是一种用于半导体晶片加工的化蜡装置。

背景技术

半导体晶片的减薄工序主要采用精密研磨机对晶片进行减薄,一般是将晶片黏贴在涂有蜡的重块平面上,然后进行压片、测量、减磨。化蜡就是一个重要步骤,目前化蜡时是将,蜡锅放到电炉上进行,需要专人员看管,化蜡时间长,效率低,蜡是在敞开的环境中融化,污染环境,化出的蜡纯净度差。

公开号为CN2122836的中国专利提供了一种《化蜡装置》,由电加热器和蜡槽组成,电加热器的明电阻丝横穿过支架上固定的绝缘板上的瓷管,并置于蜡槽内,明电阻丝首尾端分别与两个连接板连接,两连接板通过接点总成螺丝与电源正、负极连接,电源电压为安全电压27--32伏特,电流为130--140安培。该化蜡装置只是通过电加热化蜡,蜡仍然是在敞开的环境中融化,不能保证蜡的纯净度。

发明内容

本实用新型针对现有半导体晶片减薄工序中化蜡技术存在的不足,提供一种集化蜡与虑蜡于一体、液态蜡纯净度高的用于半导体晶片加工的化蜡装置

本实用新型的用于半导体晶片加工的化蜡装置采用以下方案:

本实用新型的化蜡装置包括电加热盘、液蜡暂存锅和陶瓷化蜡筒,液蜡暂存锅连接在电加热盘上,液蜡暂存锅的上端设有锅盖,下部设有带阀门的出液口,陶瓷化蜡筒安装在锅盖的底面,陶瓷化蜡筒的外壁上包覆有电热丝,陶瓷化蜡筒的下端设有滤纸。

液蜡暂存锅内设有液位计。

本实用新型采用电加热化蜡,使固态蜡在封闭的环境中熔化,并使熔化的液态蜡经过过滤后使用,集化蜡与虑蜡于一体,提高了液态蜡的纯净度,提高了化蜡效率。

附图说明

附图是本实用新型的结构示意图。

其中:1、电加热盘,2、液蜡暂存锅,3、液位计,4、锅盖,5、把手,6、陶瓷化蜡筒,7、电热丝,8、挡板,9、阀门,10、出液口,11、滤纸,12、滤网。

具体实施方式

如附图所示,本实用新型的化蜡装置包括电加热盘1、液蜡暂存锅2和化蜡筒3。液蜡暂存锅2连接在电加热盘1上,电加热盘1采用类似电饭锅上的结构,设有温控装置。液蜡暂存锅2的上端设有锅盖4,左侧下部设有出液口10,出液口10上设有阀门9,液蜡暂存锅2的上部设有把手5,液蜡暂存锅2内还设有液位计3,液位计3可安装在陶瓷化蜡筒6下端的挡板8上。陶瓷化蜡筒6的上口敞开,上端安装在锅盖4的底面,下端设有挡板8,陶瓷化蜡筒6的外壁上包覆有电热丝7。陶瓷化蜡筒6的下端设有滤网12,在挡板8的下面上设有多层滤纸11,可在滤纸11的下面设置承托网。

本实用新型的工作过程是:

首先将液蜡暂存锅2用水刷干净并用气枪吹干,盖严锅盖4,防止空气灰尘落进液蜡暂存锅2内,关闭液蜡暂存锅2的出液口10上的阀门9,接好电源线。在陶瓷化蜡筒6内放入蜡块。熔化后的液态蜡通过滤网12往下流,依次通过三层滤纸11过滤后流入液蜡暂存锅2内暂时存放起来,这时蜡经过过滤已经达到使用要求。随着熔化液态蜡的增多,液蜡暂存锅2内的液态蜡高度会不断增加,液态蜡升到一定高度时,液位计3发出信号报警,停止在化蜡筒内加蜡。打开液蜡暂存锅2上的阀门9,将液态蜡灌注于塑料或橡胶成型模内直接固化成型。使用完装置毕后,将陶瓷化蜡筒6底部的滤纸11取下,用甲苯棉球擦净滤纸承托网和陶瓷化蜡筒6,用甲苯刷洗液蜡暂存锅2的内部和阀门9,以备下次使用。

当剩下的液蜡在液蜡暂存锅2内凝固后,可通过底部的电加热盘1加热使之再次熔化利用。

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