[实用新型]流体压差式纳米研磨装置

权利要求书

1.一种流体压差式纳米研磨装置，其特征在于，包括：

一原料进料槽，其连通有一进料管，并连接有一原料出料管，且该原料出料管上设有一加压泵浦；

一液体供应单元，其连通于该原料出料管；

一气体供应单元，其连通于该原料出料管；

一均压装置，其包括一均压筒、一加压原料进料管、一气液分离器、一压力表、至少一纳米研磨器，该加压原料进料管的一端连接于该均压筒，且与该原料出料管连通，该气液分离器设置于该均压筒，并与该均压筒连通，该压力表设置于该均压筒，所述纳米研磨器设置于该均压筒，并与该均压筒连通，并且以一回流管连接至该原料进料槽；

一后处理设备，其连接于该纳米研磨器。

2.如权利要求1所述的流体压差式纳米研磨装置，其特征在于，所述各纳米研磨器包括：

一中空外壳，其设有一开放近端、一开放远端、至少一研磨器出口管以及一环挡部，该中空外壳的近端与该均压筒接触并结合，该研磨器出口管设置于该中空外壳的侧边，该环挡部由该中空外壳的内壁向内延伸且在该中空外壳的近端的位置，以令该环挡部围成连通于该均压筒的一流体入口，且令该环挡部与该中空外壳的远端所形成的空间为一内部空间，该内部空间与该流体入口以及所述研磨器出口管连通；

一盖体，其设置于该中空外壳的远端，以封闭该远端，且该盖体设有与该内部空间连通的一中央穿孔；

多个研磨片，其设置于该内部空间内，且与该中空外壳的内壁之间形成有一膨胀空间，而各研磨片形成一中轴孔，并于该中轴孔外侧环状排列且间隔形成有多个导流孔，该中轴孔供一中轴固定杆穿入，该中轴固定杆包括一穿入该中轴孔中的杆体以及垂直设置于该杆体的远端的第一垫片，以令该中轴固定杆的截面呈T字型，而该第一垫片抵靠于最接近该盖体的研磨片；

一调压杆，其穿入该盖体的中央穿孔，且该调压杆包括一穿入该中央穿孔中的杆体以及垂直设置于该杆体的远端的第二垫片，以令该调压杆的截面呈T字型，该杆体包括一设置于该中空外壳的内部空间的近端、一设置于该中空外壳的外侧的远端、至少一设置于该中央穿孔内且环设于该杆体外侧的橡胶密封圈、一设置于该盖体外侧且环设于该杆体外侧的定位螺帽以及一设置于该定位螺帽旁且环设于该杆体外侧的固定螺帽，而该第二垫片设置于该杆体的近端，以放置于该内部空间中抵掣该第一垫片，以调整所述多个研磨片之间的紧密度。

3.如权利要求2所述的流体压差式纳米研磨装置，其特征在于，所述研磨片的导流孔的轴线与水平面呈0至60度。

4.如权利要求1所述的流体压差式纳米研磨装置，其特征在于，该后处理设备包括一装瓶机，其由一装瓶入料管与该纳米研磨器连接，且该装瓶入料管设有一电磁阀。

5.如权利要求1至4中任一项所述的流体压差式纳米研磨装置，其特征在于，该后处理设备包括一释压槽，其底部设有一释压排放管，该释压槽以一释压槽入料管连接于该纳米研磨器，且该释压槽入料管设有一电磁阀。

6.如权利要求5所述的流体压差式纳米研磨装置，其特征在于，该液体供应单元以一液体添加料管连接至该原料出料管，且该液体添加料管设有一液体流量计。

7.如权利要求5所述的流体压差式纳米研磨装置，其特征在于，该气体供应单元以一气体添加料管连接至该原料出料管，且该气体添加料管上设有一气体流量计。

8.如权利要求6所述的流体压差式纳米研磨装置，其特征在于，该气体供应单元以一气体添加料管连接至该原料出料管，且该气体添加料管设有一气体流量计。

9.如权利要求5所述的流体压差式纳米研磨装置，其特征在于，该原料进料槽的进料管连通于该原料进料槽近顶部处，而该原料进料槽的原料出料管设置于该原料进料槽的底部。

10.如权利要求5所述的流体压差式纳米研磨装置，其特征在于，该均压装置包括一第一纳米研磨器以及一第二纳米研磨器，该回流管连通于该第一纳米研磨器，而该后处理设备连接于该第二纳米研磨器。