[发明专利]一种在线清洗二氧化硅过滤机的方法有效

专利信息
申请号: 200910312957.9 申请日: 2009-12-31
公开(公告)号: CN101733255A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 刘松林;骆吉林;何勇岗;葛忠法;冯胜波;汤仁恒;龚兴荣 申请(专利权)人: 贵州瓮福蓝天氟化工股份有限公司
主分类号: B08B3/08 分类号: B08B3/08
代理公司: 贵阳东圣专利商标事务有限公司 52002 代理人: 袁庆云
地址: 550501 贵*** 国省代码: 贵州;52
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摘要:
搜索关键词: 一种 在线 清洗 二氧化硅 过滤机 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及化工技术领域,具体来说涉及一种在线清洗二氧化硅过滤机的方法。

背景技术

过滤机在生产运行过程中,由于是过滤含有硅胶(二氧化硅)的氟硅酸,易使过滤机滤 板及滤布结垢,发生堵塞,现有的清理方法是利用过滤机本身自有的清洗小车,利用工艺水 对滤板和滤布进行洗涤,洗涤只能从表面进行清洗,根本无法解决滤板堵塞的清洗。解决过 滤机因滤布、和滤板因结垢而导致过滤机出现堵塞,并且利用现有的清洗方法又无法达到清 晰的目的,致使过滤机过滤困难,过滤能力大大减小,对二氧化硅洗涤效果差,导致氟硅酸 消耗高。

发明内容

本发明的目的在于克服上述缺点而提供一种保证了装置运行的连续性,提高了装置生产 的能力,减少了装置运行的维护费用的在线清洗二氧化硅过滤机的方法。

本发明的一种在线清洗二氧化硅过滤机的方法,包括下述步骤:

(1)来自尾洗槽(或工艺水)的尾洗液送至清洗槽,待清洗槽液位显示约60~70%,停 止进尾洗液;来自氟化氢尾气风机出口管的AHF尾气被引至文丘里喷射泵;清洗槽内的尾洗 液被送至文丘里喷射泵与AHF尾气充分洗涤吸收,稀HF酸进入清洗槽;随着清洗槽泵的运行 和文丘里喷射泵的不断吸收,清洗槽内稀HF酸的浓度不断升高,至HF酸浓度达到8~30%时, 停文丘里喷射泵吸收;

(2)当过滤机滤布需要清洗时,压紧过滤机,启动清洗槽泵,将清洗槽内稀HF酸送至 过滤机,使过滤机框室内充满稀HF酸,滤布得到清洗,清洗液返回清洗槽。

上述的一种在线清洗二氧化硅过滤机的方法,其中:清洗效果较差时,将清洗槽内清洗 液通过清洗槽泵泵送去尾洗系统。

本发明与现有技术相比,具有明显的有益效果,从以上技术方案可知,主要是利用氢 氟酸易与二氧化硅反应的特性,通过泵打入过滤机系统循环或者浸泡,溶解过滤机滤板及滤 布上的二氧化硅,从而达到在线清洗过滤机系统的目的。化学方程式如下:6HF+SiO2= H2SiF6+2H2O。本方法保证过滤机过滤量达到设计能力,稳定装置生产负荷;增强洗水的穿透 能力,提高了二氧化硅的洗涤效果,降低了二氧化硅中的氟硅酸含量,提高了氟的回收率, 从而降低了氟硅酸消耗;同时也有利于提高氟硅酸浓度,进而降低了浓硫酸原料和蒸汽等公 用工程单耗。

具体实施方式

实施例1

一种在线清洗二氧化硅过滤机的方法,包括以下步骤:

(1)来自尾洗槽(或工艺水)的尾洗液通过尾洗泵被泵送至清洗槽,待清洗槽液位显 示约60~70%,停止进尾洗液;来自氟化氢尾气风机出口管的AHF尾气被引至文丘里喷射泵; 通过清洗泵的泵送,清洗槽内的尾洗液被送至文丘里喷射泵与AHF尾气充分洗涤吸收,稀HF 酸进入清洗槽;随着清洗槽泵的运行和文丘里喷射泵的不断吸收,清洗槽内稀HF酸的浓度不 断升高,至HF酸浓度达到8~30%时,停文丘里喷射泵吸收;

(2)当过滤机滤布需要清洗时,压紧过滤机,启动清洗槽泵,将清洗槽内稀HF酸送至 过滤机,使过滤机框室内充满稀HF酸,滤布得到清洗,清洗液返回清洗槽。

实施例2

一种在线清洗二氧化硅过滤机的方法,包括以下步骤:

(1)来自尾洗槽(或工艺水)的尾洗液通过尾洗泵被泵送至清洗槽,待清洗槽液位显 示约60~70%,停止进尾洗液;来自氟化氢尾气风机出口管的AHF尾气被引至文丘里喷射泵; 通过清洗泵的泵送,清洗槽内的尾洗液被送至文丘里喷射泵与AHF尾气充分洗涤吸收,稀HF 酸进入清洗槽;随着清洗槽泵的运行和文丘里喷射泵的不断吸收,清洗槽内稀HF酸的浓度不 断升高,至HF酸浓度达到8~30%时,停文丘里喷射泵吸收;

(2)当过滤机滤布需要清洗时,压紧过滤机,启动清洗槽泵,将清洗槽内稀HF酸送至 过滤机,使过滤机框室内充满稀HF酸,滤布得到清洗,清洗液返回清洗槽;

(3)通过清洗槽泵的不断运行,稀HF酸在清洗槽与过滤机之间不断循环清洗,清洗液 HF的含量逐渐降低,H2SiF6的含量逐渐升高;经过多次使用,待清洗液HF的含量低至清洗效 果较差时,将清洗槽内清洗液通过清洗槽泵泵送去尾洗系统。

以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,任何未 脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同 变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。

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