[发明专利]镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及镀膜技术，特别涉及一种用于基板表面镀膜的镀膜装置。

背景技术

随着各种电子产品的飞速发展，消费群体对电子产品的要求越来越高，例如电子产品外观色彩、电磁屏蔽功能、防氧化腐蚀功能等等。因此，电子产品各零组件的镀膜处理技术显得越来越重要，镀膜品质的好坏直接影响着电子产品上述各种性能的优劣。

并且，随着对镀膜质量的要求不断提高，对一些较为重要的零组件，需要镀上两种或两种以上不同的膜层，以使得电子产品具有更优越的性能。目前，在需要镀多种膜层时，一般为先在一个镀膜装置中镀上第一膜层，然后再拿出来放到另一个镀膜装置中镀上第二膜层。然而，由于镀膜基板在镀上第一膜层与第二膜层之间需要暴露在外界空气中，因此很可能造成第一膜层与第二膜层之间的结合力不佳，进而影响膜层质量及其性能，并且其镀膜效率相对较低。

因此，有必要提供一种镀膜效率较高、膜层质量及性能较佳的镀膜装置。

发明内容

下面将以具体实施例说明一种镀膜装置。

一种镀膜装置，包括第一镀膜腔体、第二镀膜腔体、缓冲腔体、阻隔体、直线驱动装置，该缓冲腔体与该第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相连，该缓冲腔体包括与第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相对的主腔体以及与该主腔体相连通的辅腔体，该阻隔体收容在该辅腔体内，该直线驱动装置固定于该辅腔体并与该阻隔体相连接，该直线驱动装置驱动该阻隔体移动至该主腔体内以阻断第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间的气体流通。

相对于现有技术，本技术方案的镀膜装置利用缓冲腔体连接在第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间，其中该缓冲腔体包括与第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相对的主腔体以及与该主腔体相连通的辅腔体，利用直线驱动装置可驱动收容在辅腔体内的阻隔体移动至主腔体内以阻断第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间的气体流通，使得待镀基板在第一腔体镀完第一膜层后可进入到第二腔体内继续镀上第二膜层，从而可实现连续镀膜的目的，提高镀膜效率；并且，由于阻隔体的阻隔作用，在第一镀膜腔体或第二镀膜腔体镀膜过程中可有效防止两个腔体之间的相互污染。

附图说明

图1是本技术方案实施例提供的镀膜装置的组装图。

图2是图1的镀膜装置的第一分解示意图。

图3是图1的镀膜装置的第二分解示意图。

图4是本技术方案实施例提供的镀膜装置的第一镀膜状态示意图。

图5是本技术方案实施例提供的镀膜装置的第二镀膜状态示意图。

图6是本技术方案实施例提供的镀膜装置的第三镀膜状态示意图。

具体实施方式

下面将结合附图和实施例对本技术方案的镀膜装置作进一步详细说明。

本技术方案实施例提供的镀膜装置100，包括第一镀膜腔体10、第二镀膜腔体20、缓冲腔体30、阻隔体40、直线驱动装置50。缓冲腔体30与第一镀膜腔体10、第二镀膜腔体20相连通。缓冲腔体30包括与第一镀膜腔体10、第二镀膜腔体20相对的主腔体32以及与该主腔体相连通的辅腔体34。阻隔体40收容在辅腔体34内。直线驱动装置50固定于辅腔体34并与阻隔体40相连接，直线驱动装置50驱动阻隔体40移动至主腔体32内以阻断第一镀膜腔体10与第二镀膜腔体20之间的气体流通。

具体地，请参阅图1-4，第一镀膜腔体10具有与缓冲腔体30相对的侧壁11以及与侧壁11相连接的底壁12。第一镀膜腔体10的侧壁11与底壁12围合形成一收容腔101。本实施例中，底壁12上开设有用于放置镀膜材料的凹槽122。

第一镀膜腔体10的侧壁11上设置有第一旋转螺杆61。第一旋转螺杆61可相对第一镀膜腔体10转动。第一旋转螺杆61沿第一镀膜腔体10的中心轴线向缓冲腔体30方向延伸，且第一旋转螺杆61不超出第一镀膜腔体10。第一旋转螺杆61表面设置有外螺纹。

第一镀膜腔体10还设置有第一伸缩杆71。第一伸缩杆71的一端固定在侧壁11上。第一伸缩杆71位于第一旋转螺杆61的一侧，第一伸缩杆71可沿平行于第一镀膜腔体10中心轴线的方向伸缩。第一伸缩杆71设置的数量并无特殊限定，其可为一个、两个或多于两个。本实施例中的镀膜装置100设置有两个第一伸缩杆71。