[发明专利]一种微型波导的制备方法

权利要求书

1.一种微型波导的制备方法，其特征在于：所述方法包括：

(1)在基片上制作微型波导的底面金属壁；

(2)在制作完底面金属壁的基片上制作微型波导侧壁胶图形；

(3)在所述微型波导侧壁胶图形的侧面和顶面制作微型波导侧壁和顶壁的起镀层；

(4)在所述起镀层上制作电镀保护胶膜，并将制作微型波导侧壁和顶壁的区域暴露出 来；

(5)对所述起镀层进行电镀，并形成微型波导侧壁和顶壁；

(6)去除所述侧壁胶图形、电镀保护胶膜及未电镀的起镀层，得到微型波导腔体。

2.如权利要求1所述的微型波导的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)具体包括：

a.在要制作微型波导的基片上旋涂光刻胶；

b.对旋涂光刻胶后的基片进行光刻显影；

c.在光刻显影后的基片上进行金属淀积；

d.去除基片上多余的金属和光刻胶，形成微型波导的底面金属壁。

3.如权利要求2所述的微型波导的制备方法，其特征在于：所述微型波导底面金属壁的材 料为黄金。

4.如权利要求1所述的微型波导的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)具体包括：

a.在已经完成微型波导底面金属壁制作的基片上涂敷紫外厚胶；

b.对涂敷紫外厚胶的基片进行烘烤；

c.对烘烤后的基片进行光刻，形成微型波导侧壁胶图形。

5.如权利要求1所述的微型波导的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)具体包括：

a.在已经完成侧壁胶图形制作的基片表面进行溅射工艺，淀积制作微型波导侧壁和顶 壁的金属；

b.在制作微型波导侧壁和顶壁的金属表面溅射一层金属膜。

6.如权利要求5所述的微型波导的制备方法，其特征在于：所述制作微型波导侧壁和顶壁 的金属为黄金，所述金属膜为钛金属。

7.如权利要求5所述的微型波导的制备方法，其特征在于：所述溅射工艺为磁控溅射、偏 压溅射或二次溅射。

8.如权利要求1所述的微型波导的制备方法，其特征在于：所述步骤(4)具体包括：

a.在所述起镀层上涂敷电镀工艺用光刻胶；

b.对涂敷电镀工艺光刻胶的起镀层上进行光刻显影，露出制作微型波导侧壁和顶壁的 需要电镀加厚的区域。

9.如权利要求1所述的微型波导的制备方法，其特征在于：所述步骤(5)具体包括：

a.对起镀层进行酸性腐蚀，去除起镀层表面的金属膜，露出制作微型波导侧壁和顶壁 的金属层；

b.将基片接通电镀阴极，对露出的制作微型波导侧壁和顶壁的金属层进行电镀加厚。

10.如权利要求1所述的微型波导的制备方法，其特征在于：所述步骤(6)具体为：将电 镀完成的基片浸入去胶溶液，去除侧壁胶图形、电镀保护胶膜和未电镀的起镀层金属膜，留 下微型波导腔体。