[发明专利]一种用于清洗并风干物料的装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于清洗并风干物料的装置。

背景技术

目前，薄膜制程技术广泛应用于半导体工业及精密机械上，由于利用薄膜制程技术所生产的产品具有很高附加价值，使薄膜制程技术与薄膜材料被广泛应用于研究和实际，同时带来镀膜技术的迅速发展。

电子束蒸镀技术为现有技术中常用的镀膜方法，该方法是通过电子源产生的高能电子束在磁场的作用下轰击物料，通过动能对热能的转换产生高温使得物料熔化并蒸发形成薄膜。然而，该方法会由于膜层粒子在沉积过程中迁移力不足产生柱状突起与空穴结构，造成薄膜层疏松、结合力差等缺陷。采用离子助镀法(Ion Assistance Deposition，IAD)配合电子束蒸镀技术可有效地解决这一问题，详情请参阅朱刚毅发表于真空电子技术2005年第6期中的文献《新型卧式离子辅助电子束蒸发真空镀膜机》中的介绍。在镀膜过程中，物料中可能会有一些脏污或杂质，这些杂质在镀膜过程中受电子束的轰击与物料一起沉积在待镀膜的基板表面，将严重影响镀膜品质。此时，若要更换物料又将耗费大量的时间及人力。

因此，有必要提供一种用于清洗并风干物料的装置。

发明内容

一种用于清洗并风干物料的装置包括第一收容筒、第二收容筒、驱动器、液体抽取器以及空气循环装置。所述第一收容筒嵌设有多个排液管。所述第二收容筒用于收容物料。所述第二收容筒收容于所述第一收容空间，并开设有多个排液口。所述驱动器与所述第二收容筒机械连接，用于驱动所述第二收容筒相对于第一收容筒移动以使多个排液口与多个排液管相连通。所述液体抽取器设置于所述第一收容筒，并用于往第二收容筒内提供循环液体以清洗物料。所述空气循环装置也设置于所述第一收容筒，并用于往第二收容筒内提供循环的空气以风干物料。

本技术方案提供的用于清洗并风干物料的装置可在清洗完成后通过第一收容筒的多个排液管与第二收容筒的多个排液口之间的作用将液体排除，从而可直接在第一收容筒内进行后续的风干过程，可节省大量工序和空间。

附图说明

图1为本技术方案实施例提供的用于清洗并风干物料的装置的结构示意图。

图2为使用本技术方案实施例提供的用于清洗并风干物料的装置清洗状态示意图。

图3为使用本技术方案实施例提供的用于清洗并风干物料的装置排水状态示意图。

具体实施方式

下面将结合附图及实施例对本技术方案提供的用于清洗并风干物料的装置作进一步详细说明。

请一并参阅图1和图2，本实施例提供一种用于清洗并风干物料的装置10，其用于清洗物料。所述用于清洗并风干物料的装置10包括第一收容筒11、第二收容筒12、驱动器13、超声波振荡器14、储液槽15、液体抽取器16和空气循环装置17。

所述第一收容筒11可为中空圆筒形，其包括顶壁110、第一侧壁111和第一底壁112。所述第一底壁112与顶壁110相对，所述第一侧壁111垂直连接于顶壁110和第一底壁112之间。