[发明专利]挠式模具的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种模具的制造方法，特别是涉及一种挠式模具的制造方法。

背景技术

传统的微透镜阵列具有多种方法，光阻热熔法是其中一种，其是利用微影与蚀刻制程，在一块基板上形成透镜承载层及光阻层，并利用光罩在光阻层上曝光显影来定以微透镜阵列的成型区域，在将成型区域之外的承载层及光阻层蚀刻去除，以形成微结构，再经过加热处理，使该微结构熔化，并藉由内聚力与表面张力的作用使该微结构可自动凝聚成半球状之微透镜阵列结构。

传统的光阻热熔法制造的微透镜曲率半径虽可以由光阻层的厚度控制，但是，半球状表面的控制不易精确控制，因此整体之制程不稳定。

越来越多类型的微透镜采用纳米压印技术制造，在传统纳米压印过程中，通常会在母模上以浇注的方式涂布聚二甲基硅氧烷(PDMS，poly dimethyl siloxane)材料，加热固化后在将PDMS从母模上脱下以得到才质为PDMS的软模，并且用该软模进行压印得到微透镜。

但是，在将PDMS浇注到母模上后，PDMS内部会有气泡，从而使得固化后的PDMS软模内部相应产生空洞以影响软模的质量，进而使得压印成型的微透镜的参数会有所瑕疵。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种可排除气泡的挠式模具的制造方法。

一种挠式模具的制造方法，其包括：提供一个基板和一个铁氟龙材料制成的固定装置，所述固定装置包括一个圆形本体及设置在所述本体几何中心的通孔；将所述基板收容在所述固定装置的通孔内，并将聚二甲基硅氧烷放置在所述基板；以150至350转/分的转速、旋转所述基板45至90秒以将聚二甲基硅氧烷涂布在所述基板上形成聚二甲基硅氧烷膜层；采用压模压印所述聚二甲基硅氧烷膜层；将所述固定装置与所述基板分离；在100至160度环境下加热聚二甲基硅氧烷膜层20至35分钟使聚二甲基硅氧烷膜层固化；将所述聚二甲基硅氧烷膜层与所述基板分离得到挠式模具。

与现有技术相比，本发明实施例的制造方法将基板设置在铁氟龙材质的本体内部并且采用旋转涂布使得聚二甲基硅氧烷扩散至基板的整个表面，由于离心力的作用，聚二甲基硅氧烷内的气泡会跑至基板边缘和本体上从而间接消除了气泡，使得固化后的聚二甲基硅氧烷内部不会产生空洞以得到高质量的挠式模具。

附图说明

图1是本发明实施例挠式模具的制造方法的流程图，该方法涉及一个固定装置。

图2是图1中固定装置的平面示意图。

图3是图2中III-III的剖面示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明作进一步详细说明。

如图1所示，一种挠式模具的制造方法，其包括：

提供一个基板和一个铁氟龙材料制成的固定装置，所述固定装置包括一个圆形本体及设置在所述本体几何中心的通孔；

将所述基板收容在所述固定装置的通孔内，并将10至15立方厘米的聚二甲基硅氧烷放置在所述基板；

以150至350转/分的转速、旋转所述基板45至90秒以将聚二甲基硅氧烷涂布在所述基板上形成聚二甲基硅氧烷膜层；

采用压模压印所述聚二甲基硅氧烷膜层；

将所述固定装置与所述基板分离；

在100至160度环境下加热聚二甲基硅氧烷膜层20至35分钟使聚二甲基硅氧烷膜层固化；

将所述聚二甲基硅氧烷膜层与所述基板分离得到挠式模具。

请一并参阅图2及图3，固定装置10在挠式模具的制造方法中用来固定圆形基板20。固定装置10包括圆形本体11、设置在本体11几何中心的通孔12和橡胶制成的O形环13。

基板20可以为玻璃基板或者硅基板。

本体11的材料为铁氟龙(Teflon)，通孔12的直径D1大于圆形基板20的直径。

本体11具有相对的第一端面111和第二端面112，通孔12的孔壁上靠近第二端面112位置设置有周向凹槽120。O形环13设置在周向凹槽120内，且直径D2等于或略小于圆形基板20的直径。

当然，周向凹槽120也可以靠近第一端面111。

由于圆形基板20与本体11之间具有O形环13，其可将圆形基板20固定在通孔12内而不会在旋转过程发生移位；并且在旋转过程中，O形环13具有缓冲功能可以防止圆形基板20与本体11发生碰撞。