[发明专利]低吸湿性阿立哌唑药物及其制备方法无效
申请号: | 200910266341.2 | 申请日: | 2002-09-25 |
公开(公告)号: | CN101792415A | 公开(公告)日: | 2010-08-04 |
发明(设计)人: | 坂东卓治;青木聪之;川崎淳一;石上诚;谷口洋一;薮内刚;藤本圣;西冈佳宏;小林功幸;高桥正典;阿部薰;仲川知则;新浜光一;宇积尚登;富永道明;大井祥博;山田昌平;富川宪次 | 申请(专利权)人: | 大塚制药株式会社 |
主分类号: | C07D215/227 | 分类号: | C07D215/227;A61K31/496;A61K9/00;A61K9/16;A61P25/18;A61P25/22;A61P25/24 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 于巧玲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 吸湿性 阿立哌唑 药物 及其 制备 方法 | ||
1.低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶,该B型结晶
具有与图5所示的粉末X射线衍射光谱相同的粉末X射线衍射光谱;
具有在IR(KBr)光谱的2945、2812、1678、1627、1448、1377、1173、960和779cm-1处的特定的红外吸收谱带;
在加热速度为5℃/分的条件下,具有在热重量/差热分析中141.5℃处的吸热峰;
在加热速度为5℃/分的条件下,具有在热重量/差示扫描量热法中140.7℃处的吸热峰;以及
所述B型结晶具有低吸湿性,并且将所述B型结晶的药物物质于保持在60℃温度和100%湿度水平的干燥器中放置24小时后,其湿含量为0.40%或更小。
2.权利要求1所述的低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶,其中当该结晶在60%相对湿度和25℃温度下适宜储存时,即使进行不少于4年的长期储存,也不转化为含水形式的阿立哌唑。
3.权利要求1所述的低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶,其中所述B型结晶具有低吸湿性,并且将所述B型结晶的药物物质于保持在60℃温度和100%湿度水平的干燥器中放置24小时后湿含量为0.10%或更小。
4.权利要求1-3任一项所述的低吸湿性形式的阿立哌唑B型结晶的制备方法,其中该方法包括将权利要求1所述的阿立哌唑水合物A于90-125℃下加热3-50小时。
5.权利要求4所述的低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶的制备方法,其中该方法包括将阿立哌唑水合物A于100℃下加热18小时。
6.权利要求4所述的低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶的制备方法,其中该方法包括将阿立哌唑水合物A于100℃下加热24小时。
7.权利要求4所述的低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶的制备方法,其中该方法包括将阿立哌唑水合物A于120℃下加热3小时。
8.权利要求4所述的低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶的制备方法,其中该方法包括将阿立哌唑水合物A于100℃下加热18小时,然后于120℃下再加热3小时。
9.权利要求1-3之任一项的低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶,其中该结晶由包括将阿立哌唑水合物A于100℃下加热18小时、然后于120℃下再加热3小时的方法制备。
10.制备包含权利要求1定义的低吸湿性形式的阿立哌唑B型结晶和一种或多种药学上可接受的载体的药用固体口服制剂的方法,其中所述低吸湿性形式的阿立哌唑B型结晶的制备方法包括将权利要求1定义的阿立哌唑水合物A于90-125℃下加热3-50小时。
11.制备包含权利要求3定义的低吸湿性形式的阿立哌唑B型结晶和一种或多种药学上可接受的载体的药用固体口服制剂的方法,其中所述低吸湿性形式的阿立哌唑B型结晶的制备方法包括将权利要求1定义的阿立哌唑水合物A于90-125℃下加热3-50小时。
12.权利要求1所述的低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶,其中当该结晶在60%相对湿度和25℃温度下适宜地储存时,即使进行为期1年的长期储存,也不转化为含水形式的阿立哌唑。
13.权利要求1所述的低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶,其中当该结晶在75%相对湿度和40℃温度下适宜地储存时,即使进行为期0.5年的长期储存,也不转化为含水形式的阿立哌唑。
14.低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶用于制备治疗中枢系统疾病的药物的用途。
15.低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶用于制备治疗精神分裂症的药物的用途。
16.低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶用于制备治疗双极性疾病的药物的用途。
17.低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶用于制备治疗伴有认知障碍的顽固性精神分裂症或不伴有认知障碍的顽固性精神分裂症的药物的用途。
18.低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶用于制备治疗焦虑、抑郁或躁狂的药物的用途。
19.低吸湿性形式阿立哌唑B型结晶用于制备治疗或预防精神分裂症以及与精神分裂症有关的症状的药物的用途。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大塚制药株式会社,未经大塚制药株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910266341.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。