[发明专利]晶片输送机台

说明书

技术领域

本发明有关于一种晶片输送机台，主要用以将晶片输送至第二输送单元上 的固定或邻近区域。

背景技术

在晶片的制作或检测的过程中经常要对晶片进行输送，然而晶片的结构往 往较为轻、薄且脆，因此若晶片在输送的过程中发生碰撞，便容易导致晶片本 身的结构造成损伤，例如出现破损、缺角或是肉眼无法辨识的裂痕，并导致晶 片良率的下降。

请参阅图1，为惯用的晶片输送机台的俯视图。如图所示，晶片输送机台 10，包括有一第一输送带11及一第二输送带13，且第一输送带11与第二输 送带13相邻，以此可将第一输送带11上的晶片12传送至第二输送带13。第 一输送带11的宽度W1大于第二输送带13的宽度W2，且在第二输送带13 上设置有一检测单元15，此将可以检测单元15对第二输送带13所输送的晶 片12进行量测。

在进行晶片12的输送过程中，操作者往往会将晶片12放置在第一输送带 11的中心位置或固定区域，当晶片12由第一输送带11传送至第二输送带13 后，也有可能同样落在第二输送带13的中心位置或固定区域。以此检测单元 15将可重复对各个晶片12的相近位置进行检测，而有利于提高量测的准确度。

然而第一输送带11及第二输送带13皆是以机械方式进行驱动，因此在运 转的同时往往会产生震动，并导致晶片12位置发生变化，而无法如预期的使 得晶片12维持在第一输送带11及第二输送带13的中心位置或固定区域，并 造成检测单元15无法重复对各个晶片12的相近位置进行的检测。

发明内容

本发明的主要目的，在于提供一种晶片输送机台，其主要在漂浮式输送单 元上进行晶片位置的导正，由于漂浮式输送单元与晶片之间几乎不存在有摩擦 力，因此可有效减小晶片在导正过程中所承受的碰撞力道，并有利于维持晶片 结构的完整性。

本发明的次要目的，在于提供一种晶片输送机台，主要在漂浮式输送单元 的侧边设置有引导单元，通过引导单元的设置可将晶片引导至第二输送单元上 的固定或邻近区域，并可以检测单元对各个晶片的相近位置进行检测，而有利 于提高晶片量测时的准确性。

本发明的又一目的，在于提供一种晶片输送机台，其中晶片与漂浮式输送 单元之间几乎不存在摩擦力，因可以减小晶片与引导单元之间的撞击力，此将 可有效延长引导单元的使用寿命。

本发明的又一目的，在于提供一种晶片输送机台，其中晶片的宽度与漂浮 式输送单元的输出端的宽度相近，当晶片通过漂浮式输送单元后，引导单元将 会对晶片的位置进行导正。

本发明的又一目的，在于提供一种晶片输送机台，其中第一输送单元的宽 度与漂浮式输送单元的输入端的宽度相近，并有利于将晶片由第一输送单元传 送至漂浮式输送单元。

本发明的又一目的，在于提供一种晶片输送机台，其中漂浮式输送单元的 输出端的宽度与第二输送单元的宽度相近，使得晶片在通过漂浮式输送单元后 会落在第二输送单元上的固定或邻近区域。

为达上述目的，本发明提供一种晶片输送机台，包括有：一第一输送单元； 一第二输送单元；一漂浮式输送单元，设置在第一输送单元及第二输送单元之 间，并用以将一晶片由第一输送单元运送至第二输送单元；及至少一引导单元， 设置在漂浮式输送单元的侧边。

附图说明

图1：为惯用晶片输送机台的俯视图。

图2：为本发明晶片输送机台一实施例的立体示意图。

图2A：为本发明晶片输送机台一实施例的部分构造的截面示意图。

图2B：为本发明晶片输送机台一实施例的侧面示意图。

图2C：为本发明晶片输送机台一实施例的俯视图。

图3A至图3D：分别为本发明晶片输送机台的输送流程图。

附图标记说明

10  晶片输送机台    11  第一输送带

12  晶片            13  第二输送带

15  检测单元

20  晶片输送机台    21  第一输送单元

22  晶片            23  第二输送单元

24  气膜            25  输送单元

251 平板            253 穿孔