[发明专利]一种新型结构的大功率氮化镓基LED无效
申请号: | 200910264672.2 | 申请日: | 2009-12-22 |
公开(公告)号: | CN101740691A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 郝国栋;王怀兵;孔俊杰;范亚明;陈勇;黄晓辉 | 申请(专利权)人: | 苏州纳晶光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 陶海锋 |
地址: | 215123 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 结构 大功率 氮化 led | ||
1.一种新型结构的大功率氮化镓基的发光二极管,包括:
衬底、N型氮化镓层、氮化铝镓阻挡层、氮化铟镓/氮化镓多量子阱有源层、P型氮化镓层、P+-氮化铟镓导电层、氧化铟钛电极层、二氧化硅钝化层、P电极和N电极,其特征在于,其中,所述氮化铝镓阻挡层为空穴阻挡层;所述氮化铟镓/氮化镓多量子阱有源层为非对称多量子阱有源层,所述非对称多量子阱有源层中阱宽大小自下而上逐渐减小;所述N型氮化镓层呈高低台阶状,具有高台面和低台面;所述N电极设置在N型氮化镓层的低台面上;所述P电极设置在氧化铟钛电极层中间;
所述大功率氮化镓基的发光二极管自下而上的结构为:衬底、设置在衬底上的N型氮化镓层、设置在N型氮化镓层的高台面上的氮化铝镓空穴阻挡层、设置在空穴阻挡层上的非对称多量子阱有源层、设置在非对称多量子阱有源层上的P型氮化镓层、设置在P型氮化镓层上的P+-氮化铟镓导电层、设置在P+-氮化铟镓导电层上的氧化铟钛电极层;
所述二氧化硅钝化层设置在整个发光二极管的顶表面和侧表面上。
2.根据权利要求1所述的大功率氮化镓基的发光二极管,其特征在于,氮化铝镓阻挡层为空穴阻挡层,位于N型氮化镓层之上,氮化铟镓/氮化镓多量子阱有源层之下。
3.根据权利要求1所述的大功率氮化镓基的发光二极管,其特征在于,氮化铝镓阻挡层选自:不掺杂或者低浓度n型掺杂的氮化铝镓层。
4.根据权利要求1所述的大功率氮化镓基的发光二极管,其特征在于,所述氮化铟镓/氮化镓多量子阱有源层采用非对称多层结构,阱宽自下而上由3nm到2nm逐渐减小。
5.根据权利要求1所述的大功率氮化镓基的发光二极管,其特征在于,所述氮化铟镓/氮化镓多量子有源层为3-5个量子阱。
6.根据权利要求1所述的大功率氮化镓基的发光二极管,其特征在于,P+-氮化铟镓导电层位于P型氮化镓层上面,所述P+-氮化铟镓导电层高浓度p型掺杂,厚度为5-10nm。
7.根据权利要求1所述的大功率氮化镓基的发光二极管,其特征在于,p型电极层采用氧化铟钛电极层与P+-氮化铟镓导电层接触。
8.根据权利要求1所述的大功率氮化镓基的发光二极管,其特征在于,二氧化硅钝化层设置在氧化铟钛电极层的表面、N型氮化镓层的低台面以及氧化铟钛电极层、P+-氮化铟镓导电层、P型氮化镓层、非对称多量子阱有源层、氮化铝镓空穴阻挡层的侧面。
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