[发明专利]等离子基板图层的涂覆方法和装置

说明书

技术领域

本发明涉及彩色显示屏制造领域，更具体地，涉及一种等离子基板图层的涂覆方法和装置。

背景技术

在多面取(一般是4面以上)等离子平板上基板介质层、等离子平板下基板介质层、障壁层的涂覆过程中，由于基板上所需形成的涂覆单元需要彼此间隔开，所以作为涂覆设备的喷嘴在涂覆完单排涂覆单元以后，需要通过执行“停顿-抬起-移动至下一排涂覆单元”等动作，从而使得在间隔处的涂覆起始位置的边缘产生不均匀，而且“停顿-抬起-移动至下一排涂覆单元”这一运行过程降低了运行效率。

另外，在运用现行的涂覆方法进行等离子前板介质的涂覆过程中，前板的对位标记是被介质层覆盖的，虽然介质层在烧结完成后是透明的，但是介质层的存在有时影响了实际对位的不准确，并且在读取对位标记时对位标记也不易寻找。

发明内容

本发明旨在提供一种等离子基板图层的涂覆方法和装置，能够解决涂覆不均匀，以及涂覆效率较低等问题。

根据本发明的一个方面，提供了一种等离子基板图层的涂覆方法，其包括：在上述等离子基板上设置一层掩模，其中，上述掩模具有与上述待涂覆的图案相同的镂空结构；将浆料涂覆在带有上述掩模的等离子基板上；将所涂覆的浆料进行干燥；将上述掩模从上述等离子基板上去除。

根据本发明的另一个方面，提供了一种等离子基板图层的涂覆装置，其包括：掩模设置部件，用于在上述等离子基板上设置一层掩模，其中，上述掩模具有与上述待涂覆的图案相同的镂空结构；涂覆部件，用于将浆料涂覆在带有上述掩模的等离子基板上；干燥部件，用于将所涂覆的浆料进行干燥；去除部件，用于将上述掩模从上述等离子基板上去除。

由于在基板上采用了掩模，所以克服了涂覆不均匀问题，此外，由于掩模的存在，使得可以连续涂覆，进而达到了提高涂覆效率的效果。

附图说明

附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本申请的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1是根据本发明实施例的等离子基板图层的涂覆方法的流程图；

图2是根据本发明实施例的胶带的平面示意图；

图3是根据本发明实施例的在涂覆之前通过滚轮将胶带粘接在基板上的过程示意图；

图4是采用如图3所示的过程形成的基板的示意图；

图5是根据本发明实施例的通过喷嘴对基板进行涂覆的过程示意图；

图6是根据本发明实施例的在干燥完成后通过滚轮揭去胶带的过程示意图；

图7是根据本发明实施例的采用图6所示的过程揭去胶带后的基板的示意图；

图8根据本发明实施例的等离子基板图层的涂覆装置的示意图。

具体实施方式

下面将参考附图并结合实施例，来详细说明本发明。

实施例1

图1是根据本发明实施例的等离子基板图层的涂覆方法的流程图。如图1所示，该等离子基板图层的涂覆方法主要包括：

S102，在上述等离子基板上设置一层掩模，其中，上述掩模具有与上述待涂覆的图案相同的镂空结构；

S104，将浆料涂覆在带有上述掩模的等离子基板上；

S106，将所涂覆的浆料进行干燥；

S108，将上述掩模从上述等离子基板上去除。

这里，所述掩模可以为胶带或塑料膜，或者，掩模还可以由其他具有掩蔽作用的材料形成。

以下以胶带为例对掩模的特性进行描述，下述的特性也同样适用于塑料膜或其他具有掩蔽作用的材料。

图2示出了根据本发明实施例的胶带的平面示意图。如图2所示，胶带具有镂空结构，其镂空图案与待涂覆的图案相同。胶带厚度为T，优选的，T＜A+B，其中，A表示所需涂覆在所述等离子基板上的浆料的厚度，B表示用于涂覆所述浆料的喷嘴与由所述浆料形成的湿膜之间的间隙。

具体的，胶带的平面尺寸设定成基板(例如，玻璃基板)的尺寸，镂空结构的位置和尺寸与基板上待涂覆的涂覆单元的位置和尺寸相同。这里，在本发明实施例中，该等离子基板图层的涂覆方法适用于形成基板中的上介质、下介质和障壁层。

进一步，在本实施例中，上述胶带可以是热失效胶带，该种胶带在一定温度(不超过干燥温度)以上时候，胶带的粘性失去或者降低，从而易于揭去。

可以通过以下步骤将胶带粘接在基板上。

1)将胶带附着在胶带纸上，卷成圆筒状，通过滚轮将胶带逐排地粘接在基板上。这里，优选的，滚轮转动一圈粘贴的胶带长度刚好是沿着涂覆方向的玻璃长度，如图3所示；或者

2)预先将胶带形成为具有基板尺寸的胶带平面，然后，将胶带平面整体铺在基板上。