[发明专利]一种真空系统检漏的装置及方法有效
申请号: | 200910259316.1 | 申请日: | 2009-12-17 |
公开(公告)号: | CN101710017A | 公开(公告)日: | 2010-05-19 |
发明(设计)人: | 李得天;成永军;冯焱;孙海;郭美如 | 申请(专利权)人: | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 |
主分类号: | G01M3/20 | 分类号: | G01M3/20 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 张利萍 |
地址: | 730000*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 系统 检漏 装置 方法 | ||
1.一种真空系统检漏的方法,其特征在于:该方法采用的真空系统检漏装置由隔断阀(1)、真空规(2)、真空容器(3)、四极质谱计(4)和抽气机组(5)组成;其连接关系为:隔断阀(1)通过管道和真空容器(3)相连,抽气机组(5)与真空容器(3)相连并从中抽出气体,真空规(2)、四极质谱计(4)与真空容器(3)连在一起;
该方法的具体步骤为:
1)启动抽气机组(5),从真空容器(3)中抽出气体;
2)对隔断阀(1)、真空规(2)、真空容器(3)以及四极质谱计(4)进行烘烤除气,烘烤温度以匀速率分别升至各自最高点后,保持60~80h,然后再以匀速率逐渐降至室温,继续抽气24~48h,用真空规(2)监测真空容器(3)内的真空度,直至真空容器(3)内的极限压力小于10-7Pa数量级;
3)打开四极质谱计(4)电源,当指示灯Ready变为绿色后,通过计算机运行四极质谱计(4)的工作软件,通过软件将SEM和Emission点亮;
4)四极质谱计(4)工作稳定1~3h以上;
5)通过四极质谱计(4)分析残余气体的谱图来确定真空容器(3)是否有漏。
2.根据权利要求1中所述的一种真空系统检漏的方法,其特征在于:所述步骤2)中的真空规为超高/极高真空电离规。
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