[发明专利]喷墨记录设备有效

专利信息
申请号: 200910259031.8 申请日: 2009-12-09
公开(公告)号: CN101758664A 公开(公告)日: 2010-06-30
发明(设计)人: 近本忠信 申请(专利权)人: 兄弟工业株式会社
主分类号: B41J2/01 分类号: B41J2/01;B41J11/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 车文;张建涛
地址: 日本爱知*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 喷墨 记录 设备
【说明书】:

相关申请的交叉引用

本申请要求2008年12月22日提出的日本专利申请 No.2008-325960的优先权,该日本专利申请的公开内容被全部结合在 此,作为参考。

技术领域

本发明涉及一种构造成在记录介质上记录图像的喷墨记录设备。

背景技术

下面的专利文献1描述了一种成像设备,该成像设备具有多个墨 头、构造成输送记录介质从而与墨头对置的压板部分(输送机构)、和构 造成将压板部分向上和向下移动的压板移动部分。压板移动部分能够 使压板部分在成像位置和阻塞清除位置之间移动。在墨头和压板部分 之间发生记录介质阻塞的情况下,压板部分通过压板移动部分移动到 阻塞清除位置,允许用户去除阻塞的记录介质。

专利文献1:JP-A-2005-111939

发明内容

根据上述布置,无论用于去除阻塞的记录介质的阻塞清除处理是 否由用户进行处理,总有用户忘记去除阻塞的记录介质的情况和阻塞 的记录介质的一部分残存在设备中而没有被完全去除的情况。在压板 部分从阻塞清除位置移动到成像位置的情况下,也就是,在压板部分 朝向喷墨头移动的情况下,由于阻塞的记录介质残存在设备中,残存 的记录介质与喷墨头的喷墨表面接触,导致损坏喷射表面和形成在喷 射表面中的喷嘴的风险。

因此本发明的目标是提供一种喷墨记录设备,其能防止阻塞的记 录介质残存在喷射表面和输送机构之间,并且其能保护喷射表面不受 损坏。

上面指出的目标可以根据本发明的原理实现,本发明提供一种喷 墨记录设备,包括:

喷墨头,在所述喷墨头中形成喷射表面,从所述喷射表面喷墨;

输送机构,所述输送机构构造成在介质输送方向上输送输送表面 上的记录介质,从而使所述记录介质与所述喷射表面对置;

相对移动机构,所述相对移动机构构造成使所述输送机构和所述 喷墨头中的至少一个移动,使得所述输送机构和所述喷墨头选择性地 位于记录位置和介质去除位置之一,在所述记录位置,利用从所述喷 墨头喷射的墨将图像记录在所述记录介质上,在介质去除位置,所述 喷射表面和所述输送机构之间的距离比当所述输送机构和所述喷墨头 位于所述记录位置时所述喷射表面和所述输送机构之间的距离大,并 且在所述介质去除位置,允许用户去除阻塞在所述喷射表面和所述输 送机构之间的阻塞的记录介质;

检测装置,所述检测装置构造成检测在所述喷射表面和所述输送 机构之间出现记录介质的阻塞;

输出装置,所述输出装置构造成响应用户的规定操作,输出表示 用于清除所述记录介质的阻塞的阻塞清除处理完成的阻塞清除完成信 号;

其特征在于还包括:

传感器,所述传感器构造成在规定位置检测通过所述输送机构在 所述输送表面上输送的记录介质;

控制器,所述控制器构造成:当所述检测装置检测到出现所述记 录介质的阻塞时,控制所述相对移动机构以进行第一操作,在所述第 一操作中,所述输送机构和所述喷墨头中的所述至少一个相对于彼此 移动,使得所述输送机构和所述喷墨头从所述记录位置定位于所述介 质去除位置;当所述输出装置输出阻塞清除完成信号时,控制所述输 送机构以进行第二操作,在所述第二操作中,未被用户去除的未去除 的阻塞记录介质被输送从而能被所述传感器检测到;并且控制所述相 对移动机构在所述第二操作之后进行第三操作,在所述第三操作中, 所述输送机构和所述喷墨头中的所述至少一个相对于彼此移动,使得 所述输送机构和所述喷墨头从所述介质去除位置定位于所述记录位 置。

注意“使所述输送机构和所述喷墨头中的至少一个移动”意味着 喷墨头和输送机构中的仅一个通过相对移动机构移动,或者喷墨头和 输送机构二者都通过相对移动机构相对于彼此移动。还应注意,记录 位置和介质去除位置中的每一个均对应于喷墨头和输送机构的相对位 置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于兄弟工业株式会社,未经兄弟工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910259031.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top