[发明专利]光学器件、其制造方法和显示装置

权利要求书

1.一种光学器件，包括：

在其表面上具有三维随机凹凸形状的基材；和

在所述基材上形成的硬涂层，其中

在所述基材表面上最大频率的突起高度落在1.5μm以上和10μm以下的范围内；

比所述基材表面上所述最大频率的突起高度更大的突起具有落在从所述最大频率的突起高度的中心值起+3μm范围内的高度；和

在所述基材表面上凹陷和凸起的横向上的长度RSm为55μm以上和500μm以下。

2.根据权利要求1所述的光学器件，其中

所述硬涂层包含无机氧化物填料和粘度调节剂；和

所述无机氧化物填料和所述粘度调节剂互相氢键键合或者配位键合。

3.根据权利要求2所述的光学器件，其中

所述无机氧化物填料包含选自二氧化硅、氧化铝、氧化锆、五氧化锑、氧化锌、氧化锡、氧化铟锡(ITO)、氧化铟、锑掺杂的氧化锡(ATO)和氧化铝锌(AZO)中的至少一种作为主要组分；和

所述粘度调节剂是含有两个以上选自羟基、羧基、脲基、酰胺基和氨基中的至少一种取代基的分子。

4.根据权利要求2所述的光学器件，其中所述硬涂层包含选自热固性树脂和可紫外线固化树脂中的至少一种作为主要组分。

5.根据权利要求1所述的光学器件，其中比所述基材表面上所述最大频率的突起高度更大的突起具有落在从所述最大频率的突起高度的中心值起+2μm范围内的高度。

6.根据权利要求1所述的光学器件，其中在所述硬涂层表面上形成遵循所述基材表面上所述凹凸形状的连续的波阵面。

7.根据权利要求1所述的光学器件，其中所述随机凹凸形状是通过由喷砂制造的母片的形状转印而形成的。

8.根据权利要求1所述的光学器件，还包括在所述硬涂层上形成的抗反射层。

9.一种光学器件，包括：

在其表面上具有三维随机凹凸形状的基材；和

在所述基材上形成的硬涂层，其中

在所述硬涂层表面上最大频率的突起高度落在0.1μm以上和5μm以下的范围内；

比所述硬涂层表面上所述最大频率的突起高度更大的突起具有落在从所述最大频率的突起高度的中心值起+1μm范围内的高度；和

在所述硬涂层表面上凹陷和凸起的横向上的长度RSm为55μm以上和500μm以下。

10.一种显示装置，其包括根据权利要求1-9任何一项所述的光学器件。

11.一种制造光学器件的方法，包括步骤：

通过喷砂制造在其表面上具有三维随机凹凸形状的母片；

将所述母片的凹凸形状转印到基材上；以及

通过在其上形成有所述凹凸形状的基材表面上涂布硬涂层涂料并固化从而在所述基材上形成硬涂层，其中

在所述基材表面上最大频率的突起高度落在1.5μm以上和10μm以下的范围内；

比所述基材表面上最大频率的突起高度更大的突起具有落在从所述最大频率的突起高度的中心值起+3μm范围内的高度；和

在所述基材表面上凹陷和凸起的横向上的长度RSm为55μm以上和500μm以下。

12.根据权利要求11的制造光学器件的方法，其中

所述硬涂层涂料包含可电离辐射固化的树脂或者热固性树脂、无机氧化物填料和粘度调节剂；并且

在所述硬涂层的形成步骤中，所述无机氧化物填料和所述粘度调节剂互相氢键键合或者配位键合。